[发明专利]氟系高分子电解质膜无效

专利信息
申请号: 201180047848.4 申请日: 2011-10-05
公开(公告)号: CN103155251A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 山根三知代;三宅直人 申请(专利权)人: 旭化成电子材料株式会社
主分类号: H01M8/02 分类号: H01M8/02;C08J9/42;C08L27/18;H01B1/06;H01M8/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高分子 电解 质膜
【权利要求书】:

1.一种高分子电解质膜,其是在微多孔膜的空隙中含有氟系高分子电解质而成的氟系高分子电解质膜,其特征在于,

所述微多孔膜的细孔分布在细孔径为0.3μm~5.0μm的范围具有分布中心,

所述高分子电解质组合物是离子交换容量为0.5毫当量/g~3.0毫当量/g的高分子电解质(A成分)。

2.如权利要求1所述的高分子电解质膜,其中,所述微多孔膜的细孔分布在细孔径为0.7μm~5.0μm的范围具有分布中心。

3.如权利要求1或2所述的高分子电解质膜,其中,所述高分子电解质(A成分)的离子交换容量为1.3毫当量/g~3.0毫当量/g。

4.如权利要求1~3任一项所述的高分子电解质膜,其中,高分子电解质组合物包含含有硫醚基的化合物(B成分)。

5.如权利要求1~4任一项所述的高分子电解质膜,其中,具有硫醚基的化合物(B成分)的平均粒径为0.01μm~0.5μm。

6.如权利要求1~5任一项所述的高分子电解质膜,其特征在于,高分子电解质组合物含有具有唑环的化合物(C成分)。

7.如权利要求1~6任一项所述的高分子电解质膜,其特征在于,微多孔膜具有至少2个分布中心。

8.如权利要求1~7任一项所述的高分子电解质膜,其特征在于,微多孔膜由聚四氟乙烯制造。

9.一种膜电极接合体(MEA),其包含权利要求1~8任一项所述的高分子电解质膜。

10.一种固体高分子电解质型燃料电池,其包含权利要求1~9的任一项所述的高分子电解质膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成电子材料株式会社,未经旭化成电子材料株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180047848.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top