[发明专利]将测量光谱匹配至参考光谱以进行原位光学监测的技术

权利要求书

1.一种控制抛光的方法，包含：

存储具有多个参考光谱的图库；

抛光基板；

在抛光期间，测量来自所述基板的光的序列光谱；

利用除平方差总和之外的匹配技术，为所述序列光谱中的每一个测量光谱寻找最佳匹配参考光谱，以产生序列最佳匹配参考光谱；以及

根据所述序列最佳匹配参考光谱，确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，寻找最佳匹配参考光谱包含：将所述测量光谱与来自所述图库的所述多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱中的每一个参考光谱交叉相关，以及选择与所述测量光谱有最大相关性的参考光谱作为最佳匹配参考光谱。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述多个参考光谱中的每一个参考光谱具有存储的相关联索引值，且所述方法进一步包含：确定来自所述序列最佳匹配参考光谱中各最佳匹配光谱的所述相关联索引值以产生序列索引值，以及使函数配适于所述序列索引值。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包含：当所述线性函数匹配或超过目标索引时，停止抛光。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述基板包括覆盖第一层的第二层，所述第一层具有不同于所述第二层的组成，且所述方法包括检测所述第一层的暴露，且所述函数配适于部分的所述序列索引值，所述部分的序列索引值对应于检测到所述第一层暴露后测量的光谱。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第二层是阻挡层，且所述第一层是介电层。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述阻挡层为氮化钽或氮化钛，且所述介电层为碳掺杂二氧化硅，或者所述介电层由四乙氧基硅烷形成。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，寻找最佳匹配参考光谱包含：计算所述测量光谱与来自所述图库的所述多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱间的欧几里得向量距离的总和，以及选择总和最小的参考光谱作为最佳匹配参考光谱。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，寻找最佳匹配参考光谱包含：计算所述测量光谱与来自所述图库的所述多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱间的导数差的总和，以及选择总和最小的参考光谱作为最佳匹配参考光谱。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括多个区域，且各区域的抛光速率可由独立变化的抛光参数单独控制，且所述方法进一步包含：

在抛光期间，测量来自各区域的序列光谱；

就各区域的所述序列光谱中的每一个测量光谱，执行所述测量光谱与来自所述图库的所述多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱的交叉相关，以及从所述图库选择与所述测量光谱有最大相关性的参考光谱作为最佳匹配参考光谱从而产生序列最佳匹配参考光谱；以及

调节至少一个区域的所述抛光参数，以调节所述至少一个区域的所述抛光速率，使得所述多个区域在抛光终点有比在无这种调节的情况下更小的厚度差。

11.一种控制抛光的方法，包含：

存储具有多个参考光谱的图库；

抛光基板；

在抛光期间，测量来自所述基板的序列光谱；

就所述序列光谱的每一个测量光谱，执行所述测量光谱与来自所述图库的所述多个参考光谱中的两个或更多个参考光谱的每一个参考光谱的交叉相关，以及选择与所述测量光谱有最大相关性的参考光谱作为最佳匹配参考光谱从而产生序列最佳匹配参考光谱；以及

根据所述序列最佳匹配参考光谱，确定抛光终点或对抛光速率的调节的至少之一。