[发明专利]使用微透镜阵列的扫描曝光装置

权利要求书

1.一种使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，具有：

多个微透镜阵列，配置于应曝光衬底的上方，二维地配置有微透镜；

支持衬底，能够倾斜地支持该微透镜阵列；

驱动部件，相对于所述支持衬底倾动驱动所述各微透镜阵列；

掩模，配置于该微透镜阵列的上方，形成有既定的曝光图案；

曝光光源，对该掩模照射曝光光；

移动装置，使所述微透镜阵列和所述衬底以及所述掩模相对地沿一个方向移动；

图像检测部，检测所述衬底的图像；

图像处理部，以该图像的检测信号为基础进行图像处理以得到形成于衬底上的基准图案；以及

控制部，该控制部运算该基准图案与将要曝光的所述掩模的曝光图案之间的偏移，经由所述驱动部件使所述微透镜阵列倾动以消除所述基准图案与所述曝光图案的偏移，

通过使所述多个微透镜阵列从平行于衬底的面的方向倾斜，从而调整衬底上的曝光位置，使曝光图案与所述基准图案一致。

2.根据权利要求1所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述图像检测部为线状地检测图像的线性传感器，该线性传感器以其检测区域相对于所述一个方向构成锐角的方式倾斜地配置，用一个线性传感器检测多列微透镜内的图像。

3.根据权利要求1所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述图像检测部为线状地检测图像的多个线性传感器，该多个线性传感器的检测区域沿相对于所述一个方向正交的方向配置，用多个线性传感器的整体检测多列微透镜内的图像。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，所述微透镜将所述掩模的曝光图案的正立等倍像投影于所述衬底上。