[发明专利]具有纳米二氧化硅基涂层的抗反射制品有效

专利信息
申请号: 201180048399.5 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN103154320A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: T·J·赫布林克;景乃勇;J·A·赖德尔 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: C23C24/08 分类号: C23C24/08;G02B1/11;H01L31/0216;H01L31/0236;B82Y30/00;B82Y40/00;G02B5/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 纳米 二氧化硅 涂层 反射 制品
【权利要求书】:

1.一种制品,所述制品包括具有抗反射结构化表面的透明基材和其上的包含二氧化硅纳米粒子的多孔网络的烧结涂层,其中所述二氧化硅纳米粒子粘结至相邻的二氧化硅纳米粒子。

2.根据权利要求1所述的制品,其中所述二氧化硅纳米粒子的多孔网络为三维网络。

3.根据权利要求1或2所述的制品,其中所述烧结涂层相对于透明基材的所述抗反射结构化表面为保形涂层。

4.根据前述权利要求中任一项所述的制品,其中所述纳米粒子具有双峰尺寸分布。

5.根据前述权利要求中任一项所述的制品,其中所述烧结涂层相对于透明基材的所述抗反射结构化表面为保形涂层。

6.根据前述权利要求中任一项所述的制品,其中所述烧结涂层比所述表面结构自身在更宽的入射光角度范围上具有更高的光透射率。

7.根据前述权利要求中任一项所述的制品,其中所述透明基材为膜。

8.根据权利要求7所述的制品,其中所述抗反射结构化表面透明膜包含静电耗散材料。

9.根据权利要求7所述的制品,其中所述透明膜的所述抗反射结构化表面具有抗光反射的结构化面,其中至少所述抗反射结构包含交联的聚合物材料,并且其中所述结构化表面的交联聚合物密度高于所述膜的其余部分。

10.一种光能吸收装置,其包括:

具有光能接收面的光吸收器;和

根据前述权利要求中任一项所述的制品,所述制品布置为介于光能的源与所述光能接收面之间,同时来自所述源的光能被所述光吸收器吸收。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180048399.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top