[发明专利]利用强碱镀浴进行金属无电沉积的方法有效
申请号: | 201180049557.9 | 申请日: | 2011-10-12 |
公开(公告)号: | CN103221579A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 莫德切·施莱辛格;罗伯特·安德鲁·佩特罗 | 申请(专利权)人: | 温莎大学 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38;C23C18/24;C23C18/32 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
地址: | 加拿大安大略*** | 国省代码: | 加拿大;CA |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 强碱 进行 金属 沉积 方法 | ||
1.一种无电镀金属到基质上的方法,包括:
制备第一个浴溶液,该溶液含有:
10至50g/L氢氧化钠,
40至120g/L酒石酸钠钾,和
一种金属盐,
制备第二浴溶液,该浴溶液与第一浴溶液物理分离,并含有
40至75g/L多聚甲醛,和
30至50g/L氢氧化钠的,
混合第一和第二浴溶液,形成pH值大于11.5的混合镀浴溶液,以及
将待镀金基质浸泡在混合溶液中,
其中金属盐包含从铜、铝、镍、金、银和它们的合金组成的组中选出的待镀金属。
2.根据权利要求1或2中所述的方法,其中,第二浴溶液pH值大于13,并且含有:
62至66g/L多聚甲醛,和
38至42g/L氢氧化钠。
3.根据权利要求1或2中所述的方法,其中,待镀金属是铜或者铜合金,并且金属盐含有25至60g/L五水硫酸铜。
4.根据权利要求3中所述的方法,其中,第一浴溶液pH值大于13,并且含有
22至27g/L氢氧化钠,
90至110g/L酒石酸钠钾,和
38至42g/L五水硫酸铜。
5.根据权利要求1-4中任何一项所述的方法,其中,基质选自铝、镁和它们合金的组成的组。
6.根据权利要求1-4中任何一项所述的方法,其中,所述基质是一种硅基质。
7.根据权利要求1-5中任何一项所述的方法,其中,所述基质浸没在所述混合溶液中的时间为大约1至60分钟,优选为10至30分钟,并且最优选为3分钟左右。
8.根据权利要求1-7中任何一项所述的方法,其中,所述混合溶液维持在选自17至32°C之间的工作温度下。
9.根据权利要求8中所述的方法,其中,所述混合溶液维持在选自20至25°C之间的工作温度下。
10.根据权利要求1-9中任何一项所述的方法,其中,所述混合溶液维持在选自13.5至14之间的pH值。
11.根据权利要求1-10中任何一项所述的方法,其中,第一和第二浴溶液以连续的分批方法混合。
12.根据权利要求1-11中任何一项所述的方法,其中,第一和第二浴溶液以大体上1∶1体积比例混合。
13.根据权利要求1-3中任何一项所述的方法,其中,所述基质含有一种选自铝、铍、钒、钛及它们的合金组成的组中的金属。
14.根据权利要求3或4中所述的方法,其中,在将基质浸没于所述混合溶液之前,将基质浸没在预处理浴溶液中,预处理浴溶液含有:
40至60g/L酒石酸,和
20至40g/L五水硫酸铜。
15.根据权利要求1-13中任何一项所述的方法,其中,在将金属基质浸没于所述混合溶液之前,将基质浸没在预处理浴溶液中酸性腐蚀,预处理浴溶液含有选自酒石酸和硫酸组成的组中的酸,选择酸的浓度可以去除其表面的氧化物。
16.根据权利要求15中所述的方法,其中,所述酸含有50至55g/L酒石酸。
17.根据权利要求15中所述的方法,其中,所述酸含有15至25ml/L硫酸。
18.根据权利要求1-14中任何一项所述的方法,其中,在将金属基质浸没于所述混合溶液之前,通过磨损机械去除基质表面上的氧化物。
19.根据权利要求1或2中所述的方法,其中,所述基质是硅基质,并且待镀金属是铜或铜合金。
20.根据权利要求1-5中任何一项所述的方法,其中,所述基质是一种铝或铝合金基质,并且待镀金属是铜或铜合金。
21.根据权利要求1-20中任何一项所述的方法,其中,第一浴溶液和第二浴溶液是水基溶液,并且按照选自大约0.5∶1到1.5∶1之间一个比例混合。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温莎大学,未经温莎大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180049557.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:平板玻璃包装箱及其拆包方法
- 下一篇:美肌方法和美肌装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理