[发明专利]具有高固体含量和良好流平性的涂布剂以及由其制得的多层涂漆及其用途

权利要求书

1.基于非质子溶剂的涂布剂，包含

至少一种低聚物型和/或聚合物型的含羟基的化合物（A），

至少一种具有至少一个式（I）的硅烷基团的化合物（B1）

-X-Si-R″_xG_3-x  （I）

其中

G=相同或不同的可水解基团，特别地，G=烷氧基（OR′），

R′=氢、烷基或环烷基，其中碳链可以被不相邻的氧基团、硫基团或NRa基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，优选地，R′=乙基和/或甲基，

X=有机基团，特别是具有1至20个碳原子的线性和/或支化的亚烷基或亚环烷基，非常特别优选地，X=具有1至4个碳原子的亚烷基，

R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可以被不相邻的氧基团、硫基团或NRa基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，优选地，R″=烷基，特别是具有1至6个碳原子的烷基，

x=0至2，优选0至1，特别优选x=0

和

至少一种不同于组分（B1）的每分子具有至少2个异氰酸酯基团的化合物（B2），

其特征在于，

（i）化合物（B2）具有脲二酮基团，和

（ii）化合物（B2）由线性脂肪族二异氰酸酯（DI）制得。

2.根据权利要求1所述的涂布剂，其特征在于，化合物（B2）由具有3至12个碳原子，特别是4至10个碳原子和非常特别优选5至6个碳原子的线性脂肪族二异氰酸酯（DI）制得。

3.根据权利要求1或2所述的涂布剂，其特征在于，化合物（B2）具有>50摩尔%，优选大于50至90摩尔%，特别优选65至80摩尔%的脲二酮基团含量，各自以通过线性脂肪族二异氰酸酯（DI）的异氰酸酯低聚而产生的结构类型的总和计。

4.根据权利要求1至3任一项所述的涂布剂，其特征在于，在含脲二酮基团的化合物（B2）中，小于5摩尔%，优选小于2.5摩尔%和特别优选没有异氰酸酯基团反应形成结构单元（I）、（II）和/或（III）。

5.根据权利要求1至4任一项所述的涂布剂，其特征在于，含硅烷基团的化合物（B1）具有异氰脲酸酯基团和/或脲基甲酸酯基团，和/或含硅烷基团的化合物（B1）还具有异氰酸酯基团。

6.根据权利要求1至5任一项所述的涂布剂，其特征在于，化合物（B1）具有

各自以结构单元（II）和（III）的总和计，介于0和100摩尔%之间，优选5至70摩尔%的至少一种式（II）的结构单元，

-NR-(X-SiR″x(OR′)3-x)  （II），

和

各自以结构单元（II）和（III）的总和计，介于0和100摩尔%之间，优选30至95摩尔%的至少一种式（III）的结构单元，

-N(X-SiR″x(OR′)3-x)n(X′-SiR″y(OR′)3-y)m  （III）

其中

R=氢、烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可以被不相邻的氧基团、硫基团或NRa基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，

R′=氢、烷基或环烷基，其中碳链可以被不相邻的氧基团、硫基团或NRa基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，优选地，R′=乙基和/或甲基，

X、X′=具有1至20个碳原子的线性和/或支化的亚烷基或亚环烷基，优选地，X、X′=具有1至4个碳原子的亚烷基，

R″=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，其中碳链可以被不相邻的氧基团、硫基团或NRa基团中断，其中Ra=烷基、环烷基、芳基或芳烷基，优选地，R″=烷基，特别是具有1至6个碳原子的烷基，

n=0至2，m=0至2，m+n=2，以及

x、y=0至2。

7.根据权利要求1至6任一项所述的涂布剂，其特征在于，化合物（B1）中反应形成结构单元（II）和/或（III）的异氰酸酯基团的总份额介于10和100摩尔%之间，优选介于30和100摩尔%之间和特别优选介于50和100摩尔%之间。