[发明专利]真空处理装置有效
申请号: | 201180050821.0 | 申请日: | 2011-10-14 |
公开(公告)号: | CN103180484A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 藤本信也;林信博;广野贵启;多田勋 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人: | 齐永红 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种真空处理装置,其传送长的片状基材使之通过真空处理室,在该真空处理室对片状基材施加规定处理。
背景技术
由于长条状树脂制成的片状基材有弹性,也有良好的加工性,所以一般公知的是在其表面形成规定的金属膜或氧化物膜等规定薄膜,或进行热处理来制成电子部件或光学部件。
以往,作为在真空中对这种片状基材进行规定处理的真空处理装置,已知的是具有真空处理室,所述真空处理室具有冷却滚筒和处理单元(溅射成膜用的阴极单元),所述冷却滚筒上卷绕着一部分长的片状基材,所述处理单元配置在该冷却滚筒的周围,在该真空处理室的上游侧和下游侧分别相连设置有真空辅助室,上游侧的真空辅助室收纳有卷绕着片状基材的送料辊,并且下游侧的真空辅助室收纳有卷料辊(例如参照专利文献1)。
在上述以往例中,在真空处理室的上部用隔板形成有分隔的空间,该空间内固定配置有导引片状基材的引导辊。因此,两真空辅助室通过其上部侧面的通孔与真空处理室相连设置。此处,根据片状基材的处理,为了在基材单面上形成多层膜,或者为了提高生产率,在冷却滚筒的周围彼此隔绝地设置多个处理单元。
在上述以往例中,用隔板分隔真空处理室设置多个冷却滚筒,在冷却滚筒的周围分别配置有多个处理单元。因此,会导致真空处理室乃至真空处理装置自身的大型化。另一方面,也可考虑增大冷却滚筒的直径以便能够配置多个处理单元,但即便如此也无法避免装置自身的大型化(例如在6m宽的片状基材上形成四层膜的装置中,装置高度达到大约5m)。
如果像这样将装置自身大型化,即便分开运输真空处理室和真空辅助室,其重量也会很重,很不方便。再有,由于装置自身的高度增加,就需要在离地面很高的位置联合真空辅助室,包括组装引导辊的操作在内,在安装现场进行组装操作也很困难。另外,上述以往例的装置中,为了不损害送料辊的装配操作或卷绕在卷料辊上的已处理的片状基材的回收操作的加工性,而设置为真空辅助室在上下方向上长的状态,以使送料辊和卷料辊距离地面的高度降低。但这样一来,随着真空处理室的大型化,真空辅助室也需要大型化。因此,为了对内部进行真空排气需要高性能的泵,这导致成本上升,再有,真空排气需要时间,这也不利于生产效率。
再有,在从送料辊开始经真空处理室到以卷料辊卷取的片状基材运动的时间里,会有例如因引导辊彼此的装配精度不足而起皱的问题,这种情况随着片状基材的宽度变宽而变得越发明显。因此,分开运输真空处理室和真空辅助室,在安装现场进行组装时,可制成易于维护的装置,例如可高精度组装设置在真空处理室或真空辅助室的各辊的相对位置,再有,组装后可通过在片状基材上实施规定处理来清洁被污染的表面等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:专利公开2002-30430号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
鉴于上述内容,本发明要解决的技术问题是提供一种易于在安装现场组装且易于维护的真空成膜装置,其将真空处理室和真空辅助室分别构成以便于运输等。
解决技术问题的手段
为了解决上述问题,本发明的特征在于:具有真空处理室、上游侧的真空辅助室以及下游侧的真空辅助室,所述真空处理室具有:滚筒,其卷起长的片状基材的一部分;多个辊,其配置在该滚筒的下方,将片状基材从上游侧导引向滚筒,并且将片状基材从该滚筒送到下游侧;以及至少一个处理单元,其设置在这些辊上方且在滚筒的周围;所述上游侧的真空辅助室具有:送料辊,设与滚筒的轴线方向正交的方向为相连设置方向,所述送料辊经连接管与真空处理室的上游侧相连设置,卷绕有片状基材;以及至少一个引导辊,其使从该送料辊送出的片状基材通过连接管内送到上述真空处理室;所述下游侧的真空辅助室具有:卷料辊,其经连接管与真空处理室的下游侧相连设置,卷取片状基材;以及至少一个辊,其将从上述真空处理室经连接管内送来的片状基材导引到卷料辊;上述真空处理室构成为将基板载置在设置于地面上的架台上,将下面开口的第一箱体从该下面侧设置在该基板上,在该第一箱体的所述轴线一侧面上形成开口部,可自由开合地装设有遮蔽该开口部的开关门,这些多个辊与在轴线方向上隔规定间隔配置的一对支撑体分别可转动地桥接构成为一体式的辊单元,所述真空处理室具有可使该辊单元在轴线方向上移动的第一引导装置,上述上游侧及下游侧的两个真空辅助室构成为将基板载置在设置于地面上的架台上,将下面开口的第二箱体及第三箱体从该下面侧分别设置在该基板上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180050821.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:燃机叶片叶根凸台圆弧检测工具
- 下一篇:积层陶瓷电容器
- 同类专利
- 专利分类