[发明专利]强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201180051299.8 | 申请日： | 2011-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN103180481A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 荒川笃俊;池田祐希 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/14;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
1.一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、余量为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶具有：金属基质(A)、以及在所述(A)中的含有30摩尔%以上Ru的Co-Ru合金相(B)和与所述相(B)不同的Co或以Co作为主要成分的金属或合金相(C)。
2.一种强磁性材料溅射靶，其为包含Cr为20摩尔%以下、Ru为0.5摩尔%以上且30摩尔%以下、Pt为0.5摩尔%以上、余量为Co的组成的金属的溅射靶，其特征在于，该靶的组织具有：金属基质(A)以及在所述(A)中的含有30摩尔%以上Ru的Co-Ru合金相(B)和与所述相(B)不同的Co或以Co作为主要成分的金属或合金相(C)。
3.如权利要求1或2所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，所述金属或合金相(C)为含有90摩尔%以上Co的相。
4.如权利要求1～3中任一项所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，含有0.5摩尔%以上且10摩尔%以下选自B、Ti、V、Mn、Zr、Nb、Ru、Mo、Ta、W、Si、Al中的一种以上元素作为添加元素。
5.如权利要求1～4中任一项所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，金属基质(A)中含有选自碳、氧化物、氮化物、碳化物、碳氮化物中的一种以上成分的无机物材料。
6.如权利要求1～5中任一项所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，所述无机物材料为选自Cr、Ta、Si、Ti、Zr、Al、Nb、B、Co中的一种以上元素的氧化物，该非磁性材料的体积比率为20%～40%。
7.如权利要求1～6中任一项所述的强磁性材料溅射靶，其特征在于，相对密度为97%以上。
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