[发明专利]用于流动型颗粒分析仪的双反馈真空流动技术有效

专利信息
申请号: 201180052384.6 申请日: 2011-10-24
公开(公告)号: CN103201611A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: D·弗兰;P·O·诺顿 申请(专利权)人: 贝克顿·迪金森公司
主分类号: G01N15/14 分类号: G01N15/14;G01F1/36;G05D7/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 王初
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 流动 颗粒 分析 反馈 真空 技术
【权利要求书】:

1.一种用于流动型颗粒分析仪的流动系统,所述流动系统包括:

a)流动槽,所述流动槽具有

样本流体进口端口,

包裹流体进口端口,

出口端口,以及

比色皿,其中,所述比色皿包含比色皿通道,该比色皿通道具有输入端部和输出端部,其中,所述输入端部与所述样本进口端口以及所述包裹流体进口端口流体连通,所述输出端部与所述出口端口流体连通;

b)样本流体管线,所述样本流体管线与所述样本进口端口流体连通,用来从样本流体容器提供包含颗粒的样本流体;

c)包裹流体管线,所述包裹流体管线与所述包裹流体进口端口流体连通,用来从包裹流体储器提供包裹流体;

d)出口管线,所述出口管线与所述出口端口流体连通;

e)真空泵,所述真空泵具有可控制功率级,与所述出口管线真空连通,并构造成用以在所述出口管线中抽吸真空,由此将所述样本流体和包裹流体抽过所述流动槽;

f)第一传感器,所述第一传感器构造成用以测量从包裹流体进口端口到所述比色皿出口端口的压降;

g)第一控制反馈回路,所述第一控制反馈回路构造成用以响应由所述第一传感器测量的压降而调节所述真空泵的功率;

h)第二传感器,所述第二传感器构造成用以测量从所述比色皿出口端口到大气压力的压降;

i)第二控制反馈回路,所述第二控制反馈回路构造成用以响应由所述第二传感器测量的压降而调节所述真空泵的功率;

其中,所述样本流体管线或所述包裹流体管线包括可变阻力流动阻滞器。

2.根据权利要求1所述的流动系统,其中,所述包裹流体管线包括可变阻力流动阻滞器。

3.根据权利要求2所述的流动系统,还包括:

a)第一阀,所述第一阀与所述包裹流体管线共线地定位,构造成用以控制所述包裹流体到所述流动槽中的流动;

b)第二阀,所述第二阀与所述出口管线共线地定位,构造成用以控制所述包裹流体到所述流动槽外的流动;

c)阀控制器,所述阀控制器与所述第一阀和第二阀可操作地连接。

4.根据权利要求2所述的流动系统,其中,所述可变阻力流动阻滞器构造成用以提供多个离散阻力水平。

5.根据权利要求4所述的流动系统,其中,所述可变阻力流动阻滞器包括多条可选择流体路径。

6.根据权利要求5所述的流动系统,其中,所述可变阻力流动阻滞器还包括多个阀,所述多个阀构造成用以允许截断所述可选择流体路径。

7.根据权利要求2所述的流动系统,其中,所述可变阻力流动阻滞器构造成用以提供连续可变流动阻力。

8.根据权利要求7所述的流动系统,其中,所述可变阻力流动阻滞器包括导管以及可控制装置,所述导管包括至少部分地可压缩或可变形的材料,所述可控制装置用来将压力施加到所述导管的外侧。

9.根据权利要求8所述的流动系统,其中,用来施加压力的所述可控制装置构造成用以施加机械压力。

10.根据权利要求8所述的流动系统,其中,用来施加压力的所述可控制装置构造成用以借助于围绕所述导管的液体或气体而施加压力。

11.根据权利要求7所述的流动系统,还包括:

a)流量计,所述流量计构造成用以测量在所述样本流体管线中的流量;以及

b)控制器,所述控制器可操作地连接到所述流量计、并且连接到所述可变阻力流动阻滞器,构造成用以响应由所述流量计测量的所述流量,自动地调节所述可变阻力流动阻滞器的阻力。

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