[发明专利]使用微透镜阵列的扫描曝光装置

权利要求书

1. 一种使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，具有：

微透镜阵列，配置在应曝光基板的上方，相互层叠配置有多块各由多个微透镜2维配置而构成的单位微透镜阵列；

掩模，配置在该微透镜阵列的上方，形成有既定的曝光图案；

曝光光源，对该掩模照射曝光光；以及

移动部件，使所述单位微透镜阵列的至少一部分相对于其他单位微透镜阵列移动，使得其构成微透镜的光轴偏移，

通过使所述单位微透镜阵列间的光轴偏移，来调整利用微透镜阵列导致的基板上的曝光位置。

2. 如权利要求1所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，

构成为所述微透镜阵列由4块单位微透镜阵列构成，第1层和第2层单位微透镜阵列与第3层和第4层单位微透镜阵列之间的微透镜的光轴偏移。

3. 如权利要求1所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，

构成为所述微透镜阵列由多块单位微透镜阵列构成，在层叠的单位微透镜阵列间的特定的倒立成像位置，微透镜的光轴各自偏移。

4. 如权利要求1至3的任意1项所述的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于，

构成为所述微透镜阵列沿着所述基板的表面的配置多个，

所述曝光装置还具有：

图像检测部，检测所述基板的图像；

图像处理部，基于该图像的检测信号进行图像处理，得到在基板上形成的基准图案；以及

控制部，计算该基准图案与要曝光的所述掩模的曝光图案之间的偏离，并经由所述移动部件调整各所述微透镜阵列的微透镜的光轴的位置，以消除所述基准图案与所述曝光图案的偏离，

调整利用所述多个微透镜阵列导致的基板上的曝光位置，使曝光图案与所述基准图案一致。