[发明专利]显示面板用基板和基板曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示面板用基板和基板曝光方法。更详细地，涉及适于在取向膜的光取向处理工序等中进行的扫描曝光的显示面板用基板和针对该基板的曝光方法。

背景技术

对在液晶显示面板的TFT阵列基板和彩色滤光片基板的表面所形成的取向膜实施取向处理，以使液晶分子在规定方向取向。作为该取向处理的方法，以往一般使用基于纤维材料的摩擦，但是最近作为取代其的取向处理的方法而使用光取向处理。

光取向处理是通过从规定方向对取向膜照射光而对取向膜的表面赋予规定的取向特性的处理。此外，在本说明书中，所谓“光”并不限定于可见光线，而包含作为波长比可见光线短的电磁波的紫外线（紫外光）。作为光取向处理中的曝光方法，例如可列举如下方法：将设有规定形状的开口部的掩模以覆盖于基板整个面的方式配置，从该掩模的上方照射光。

在这样的曝光方法中，伴随基板尺寸的大型化，掩模的尺寸也需要增大，导致掩模的高价格化。另外，当掩模大型化时，容易产生由挠曲引起的开口部的位置偏移。

对此，提出如下曝光方法：其一边使用形成有狭缝状开口部的小型的掩模对基板表面的一部分区域照射光，一边使基板移动（参照专利文献1、2）。根据该曝光方法，基板表面的特定区域呈条状被曝光。另外，在该曝光方法中，在一边照射光一边使基板移动的期间，对形成于基板表面的图案进行拍摄，使用所拍摄的图像监视实际上照射的位置。由此，使得实际上曝光的区域不会偏离应曝光的区域，另外在偏离的情况进行校正。

并且，当实施这样的曝光方法时，为了使得在基板的曝光开始位置的附近能精度良好地进行曝光，在基板上形成有对准标记。在专利文献1中公开了：对于成为曝光对象的基板，在像素图案形成为格子状的区域的外侧，且在该区域的最近处，形成用于预先校正掩模相对于基板的位置、角度的作为对准标记的假图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2007－41175号公报

专利文献2：国际公开第2007/113933号

发明内容

发明要解决的问题

即使如专利文献1那样在像素图案形成为格子状的区域的外侧，且在该区域的周边的最近处配置有对准标记的情况下，也有时曝光开始位置偏离应曝光的区域，产生被称为“跟踪不良”的曝光位置的偏移，因此有进一步改进的余地。

本发明是鉴于上述现状而完成的，其目的在于：提供能从规定位置朝向规定方向准确地开始曝光的显示面板用基板和基板曝光方法。

用于解决问题的方案

本发明人对一边使用形成有狭缝状开口部的小型的掩模对基板表面的一部分区域照射光一边使基板移动的曝光方法（换言之为扫描曝光）进行各种研讨，结果注意到在基板的曝光开始位置的附近不能精度良好地进行曝光。即，本发明人发现：在像素图案形成为格子状的区域（换言之，为曝光区域）的外侧，且在曝光区域的最近处配置有对准标记的状态下，在识别对准标记后直至完成掩模校正的期间，有时曝光区域会到达掩模下。因此，本发明人在从显示区域离开2mm以上的位置配置对准标记的中心，由此能在曝光区域到达掩模下之前完成掩模的位置和方向的调整，能从规定位置朝向规定方向准确地开始进行曝光，想到能很好地解决上述问题，结果完成了本发明。

即，本发明是显示面板用基板，具有：排列有多个像素的显示区域；以及与上述显示区域相邻的边框区域，

在上述边框区域内具备对准标记，

上述对准标记的中心位于从上述显示区域离开2mm以上的位置。

本发明的显示面板用基板适合用作应用扫描曝光的基板，上述对准标记在扫描曝光时适合用于定位。如果构成读取例如与上述对准标记的位置和方向有关的信息，调整光掩模的位置、方向的曝光系统，则能提高曝光精度。

另外，本发明是基板曝光方法，利用具备光源、光掩模、工作台以及摄像装置的曝光机对载置于上述工作台上的上述显示面板用基板进行扫描曝光，

上述扫描曝光是一边使上述显示面板用基板和上述光掩模中的至少一方移动，一边通过设于上述光掩模的透光部对上述显示区域照射从上述光源发出的光，

在上述基板曝光方法中，

在上述显示区域内进行扫描曝光前，利用上述摄像装置读取与上述对准标记的位置和方向有关的信息，