[发明专利]无碱玻璃

说明书

技术领域

本发明涉及一种无碱玻璃，特别涉及有机EL显示器中适合的无碱玻璃。

背景技术

有机EL显示器等电子器件由于薄型且动画显示优异、并且消耗电力也低，因此被用于便携电话的显示器等用途中。

作为有机EL显示器的基板广泛使用玻璃板。该用途的玻璃板主要被谋求以下特性。

(1)由于可防止在热处理工序成膜后的半导体物质中碱离子扩散的事态，所以基本上不含有碱金属氧化物；

(2)由于玻璃板低廉化，所以生产率优异，特别是耐失透性、熔融性优异；

(3)p-Si·TFT的制造工序中，由于降低玻璃板的热收缩，所以应变点升高。

近年来，除了上述要求以外，显示器的轻量、薄型化，进而挠性化等的要求逐渐增强。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第3804112号公报

发明内容

发明要解决的问题

显示器的薄型化通常使用化学蚀刻。该方法为通过将贴合2张玻璃板而成的显示面板浸渍于氟酸系试剂中，使玻璃板变薄的方法。

但是，以往的显示器用玻璃板由于对于氟酸系试剂的耐性高，所以存在蚀刻速率非常慢这样的问题。为了加快蚀刻速率，如果提高试剂中的氟酸浓度，则氟酸系溶液中不溶的微粒变多，作为结果，该微粒容易附着于玻璃表面，在玻璃板的表面，蚀刻的均匀性受损。

为了解决上述问题，研究有如下方法：降低玻璃组成中的B₂O₃的含量，提高对于氟酸系试剂的蚀刻速率。例如专利文献1中公开有含有0～1.5摩尔％的B₂O₃的无碱玻璃。但是，专利文献1记载的无碱玻璃由于耐失透性低，所以成型时容易发生失透，制造困难。另外，为了提高该无碱玻璃的耐失透性，需要降低Al₂O₃的含量，此时，应变点下降，p-Si·TFT的制造工序中，玻璃板的热收缩变大。因此，专利文献1记载的无碱玻璃难以兼顾高应变点和高耐失透性。

因此，本发明的技术课题为通过发明生产率(特别是耐失透性)优异、同时对于氟酸系试剂的蚀刻速率、而且应变点高的无碱玻璃，从而使玻璃板的制造成本低廉化，同时使薄型的显示面板的制造工序中的生产率提高，进而降低p-Si·TFT的制造工序中的玻璃板的热收缩。

用于解决问题的方案

本发明人等反复进行了各种实验，结果发现：通过严格控制无碱玻璃的玻璃组成范围，同时将玻璃特性控制在规定的范围，由此能够解决上述技术问题，并且作为本发明而提出。即，本发明的无碱玻璃，其特征在于，作为玻璃组成，以质量％计含有SiO₂58～70％、Al₂O₃15.5～20％、B₂O₃0～1％、MgO0～5％、CaO3.5～16％、SrO0.5～6.5％、BaO5～15％，且基本上不含有碱金属氧化物，应变点高于725℃。这里，“基本上不含有碱金属氧化物”是指玻璃组成中的碱金属氧化物(Li₂O、Na₂O、K₂O)的含量为1000ppm(质量)以下的情况。应变点是指基于ASTM C336的方法测定的值。

本发明的无碱玻璃优选基本上不含有B₂O₃。这里，“基本上不含有B₂O₃”是指玻璃组成中的B₂O₃含量为1000ppm(质量)以下。

本发明的无碱玻璃，作为玻璃组成，优选还含有0.001～1质量％的SnO₂。

本发明的无碱玻璃优选杨氏模量大于78GPa。需要说明的是，杨氏模量可利用弯曲共振法测定。

本发明的无碱玻璃优选杨氏模量/密度(比杨氏模量)大于29.5GPa/g·cm^-3。需要说明的是，密度可利用阿基米德法测定。

本发明的无碱玻璃优选液相温度低于1250℃。需要说明的是，通过30目的标准筛(500μm)，将残留于50目(300μm)的玻璃粉末放入铂舟中后，在温度梯度炉中保持24小时，并通过测定结晶析出的温度来算出液相温度。

本发明的无碱玻璃优选10^2.5泊时的温度为1660℃以下。