[发明专利]微光刻曝光设备的投射物镜

权利要求书

1.一种设计用于EUV的微光刻投射曝光设备的投射物镜，用于将在所述投射曝光设备的操作中被照明的物平面成像于像平面中，

其中，所述投射物镜具有至少一个反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)，其包含多个独立的反射镜区段(161-163；261-266、281-284；311、312；411、412；510-540)；及

其中，与同一反射镜区段布置的反射镜区段关联的是彼此不同且分别被提供用于将所述物平面(OP)成像于所述像平面(IP)中的局部光束路径，其中所述局部光束路径在所述像平面(IP)中叠加，及其中在所述像平面(IP)中的同一点叠加的至少两个局部光束由所述同一反射镜区段布置的不同反射镜区段反射。

2.如权利要求1所述的投射物镜，其特征在于，所述至少一个反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)是所述投射物镜的反射布置，该布置关于光束路径是所述像平面侧的最后一个。

3.如权利要求1或权利要求2所述的投射物镜，其特征在于，所述至少一个反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)是所述投射物镜的具有最大尺寸的总光学有效表面的反射布置。

4.如权利要求1至3中任一项所述的投射物镜，其特征在于，所述至少一个反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)具有至少三个反射镜区段(161、162、163；261-266、281-284；411、412；510-540)，尤其是至少四个反射镜区段(261-266、281-284；510-540)。

5.如前述权利要求任一项所述的投射物镜，其特征在于，所述同一反射镜区段布置(160、260、280、410、500)的反射镜区段(161-163；261-266、281-284；311、312；411、412；510-540)分别彼此一起形成仅由过渡区域中断的连续反射表面，所述过渡区域选择性地出现在相邻反射镜区段之间。

6.如前述权利要求任一项所述的投射物镜，其特征在于，提供至少两个反射镜区段布置(260、280)，其各具有至少两个独立的反射镜区段(261-266、281-284)，其中与同一反射镜区段布置(260、280)的反射镜区段(161-266、281-284)关联的是彼此不同且分别被提供用于将所述物平面(OP)成像至所述像平面(IP)中且在所述像平面(IP)中叠加的光束路径。

7.如权利要求6所述的投射物镜，其特征在于，一个所述反射镜区段布置(260)的反射镜区段(261-266)中的相应的一个以具有同一局部光束路径的成对关系而与另一个反射镜区段布置(280)的反射镜区段(281-284)中的一个关联。

8.如前述权利要求任一项所述的投射物镜，其特征在于，还提供光阀布置(315、316、317、415)，其被设计为使得能够将所述至少一个反射镜区段布置(310、410)的照明选择性地限制于所述反射镜区段布置的不同反射镜区段(310、312、411、412)。

9.如前述权利要求任一项所述的投射物镜，其特征在于，所述反射镜区段布置的至少两个反射镜区段可相对于彼此移动。

10.一种设计用于EUV的微光刻投射曝光设备的投射物镜，用于将在所述投射曝光设备的操作中被照明的物平面成像于像平面中，

其中所述投射物镜包含多个反射镜；及

其中所述多个反射镜中具有最大尺寸的反射镜形成为包含多个独立的反射镜区段(161-163；261-266、281-284；311、312；411、412；510-540)的反射镜区段布置(160、260、280、310、410、500)。

11.如前述权利要求任一项所述的投射物镜，其特征在于，还提供遮拦光阀布置，其中所述反射镜区段布置的所述反射镜区段之间保留的至少一个反射镜区段中间空间至少局部地布置在所述遮拦光阀布置的阴影中。