[发明专利]由环烯烃共聚物制成的屏蔽涂层

权利要求书

1.一种屏蔽涂层，其中至少一个厚度至少为1μm的聚合物层施用至选自聚合物箔、纸和纸板的支撑基底，并且聚合物层由至少一种共聚物形成，其中所述共聚物可以通过以下物质的开环异位聚合反应而制备：

a)至少一种烯烃单体，选自具有一个或两个内环C-C双键的单环烯烃单体和具有一个内环C-C双键的双环烯烃单体，和

b)至少一种具有至少两个C-C双键的多环烯烃单体；

并且烯烃单体a)与多环烯烃单体b)的摩尔比为80:20至15:85。

2.上述权利要求的屏蔽涂层，其中烯烃单体a)的环张力为至少2千卡/mol，并且多环烯烃单体b)选自环张力为至少15千卡/mol的双环二烯。

3.上述权利要求中任一项的屏蔽涂层，其中共聚物可以通过顺式-环辛烯和二环戊二烯的开环异位聚合反应而制备。

4.上述权利要求中任一项的屏蔽涂层，其中支撑基底为由聚对苯二甲酸乙二醇酯、取向聚丙烯、聚乙烯，或生物可降解的脂族-芳香族共聚酯制备的聚合物箔。

5.上述权利要求中任一项的屏蔽涂层，其中支撑基底为包装材料或包装材料的一部分。

6.上述权利要求中任一项的屏蔽涂层，其中支撑基底包括增塑剂。

7.上述权利要求中的屏蔽涂层，其中支撑基底为包括增塑剂的PVC箔。

8.上述权利要求中任一项的屏蔽涂层，其中屏蔽涂层还直接或间接地涂覆有粘合剂层。

9.在支撑基底上产生或提高屏蔽效应的方法，所述支撑基底选自聚合物箔、纸和纸板，其中至少一个厚度至少为1μm的共聚物层被施用至支撑基底，并且共聚物可以通过以下物质的开环异位聚合反应而制备：

a)至少一种烯烃单体，选自具有一个或两个内环C-C双键的单环烯烃单体和具有一个内环C-C双键的双环烯烃单体，和

b)至少一种具有至少两个C-C双键的多环烯烃单体；

并且烯烃单体a)与多环烯烃单体b)的摩尔比为80:20至15:85。

10.上述权利要求的方法，其中共聚物以共聚物的水分散体形式施用，并且通过干燥分散体而在支撑基底上形成膜。

11.前两项权利要求之一的方法，其中支撑基底为箔或包装材料，并且包装材料或箔的表面的至少一部分涂覆有所述共聚物的膜。

12.共聚物用于在支撑基底上产生或提高屏蔽效应的用途，所述支撑基底选自聚合物箔、纸和纸板，其中共聚物可以通过以下物质的开环异位聚合反应而制备：

a)至少一种烯烃单体，选自具有一个或两个内环C-C双键的单环烯烃单体和具有一个内环C-C双键的双环烯烃单体，和

b)至少一种具有至少两个C-C双键的多环烯烃单体；

并且烯烃单体a)与多环烯烃单体b)的摩尔比为80:20至15:85。

13.上述权利要求的用途，其中共聚物以共聚物的水分散体形式用于制备屏蔽膜。

14.前两项权利要求之一的用途，其中屏蔽效应包括脂肪屏蔽、氧气屏蔽、水蒸汽屏蔽、增塑剂屏蔽、气味屏蔽或CO₂屏蔽。

15.上述权利要求中任一项的用途，其中氧气屏蔽或水蒸汽屏蔽被提供至聚合物箔，或脂肪屏蔽被提供至纸。