[发明专利]用于负显影的光致抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法

权利要求书

1.一种能够负显影的光致抗蚀剂组合物，其包含成像聚合物和辐射敏感型产酸剂，所述成像聚合物包含具有酸不稳定侧链部分的第一单体单元和包含反应性醚部分、异氰化物部分或异氰酸酯部分的第二单体单元。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸不稳定侧链部分包含碳酸叔烷基酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮中的一种。

3.权利要求2的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸不稳定侧链部分包含叔烷基酯。

4.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所述反应性醚部分是环氧化物。

5.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中所述辐射敏感型产酸剂包括鎓盐、琥珀酰亚胺衍生物、重氮化合物和硝基苄基化合物中的至少一种。

6.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其还包含溶剂、猝灭剂和表面活性剂中的至少一种。

7.权利要求6的光致抗蚀剂组合物，其中所述溶剂包含醚、二醇醚、芳烃、酮和酯中的至少一种。

8.权利要求7的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂组合物包含：

约1至约30wt%的所述成像聚合物；

基于所述成像聚合物的总重量，约0.5至约30wt%的辐射敏感型产酸剂；和

约70至约99wt%的所述溶剂。

9.一种能够负显影的光致抗蚀剂组合物，其包含聚合物、辐射敏感型产酸剂和一种组分，所述聚合物包含具有酸不稳定侧链部分的单体单元，所述组分包含醇部分、反应性醚部分、异氰化物部分或异氰酸酯部分。

10.权利要求9的光致抗蚀剂组合物，其中所述反应性醚部分是环氧化物。

11.权利要求9的光致抗蚀剂组合物，其还包含溶剂、猝灭剂和表面活性剂中的至少一种。

12.权利要求11的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂组合物包含：

约1至约30wt%的所述聚合物；

基于所述聚合物的总重量，约0.5至约30wt%的所述辐射敏感型产酸剂；

基于所述聚合物的总重量，约1至约30wt%的所述组分；和

约70至约99wt%的所述溶剂。

13.在衬底上形成图案化的材料结构的方法，所述方法包括：

提供具有所述材料层的衬底；

将光致抗蚀剂组合物施加到所述衬底上以在所述材料层上形成光致抗蚀剂层，所述光致抗蚀剂组合物包含成像聚合物和辐射敏感型产酸剂，所述成像聚合物包含具有酸不稳定侧链部分的第一单体单元和包含伯醇部分、仲醇部分、反应性醚部分、异氰化物部分或异氰酸酯部分的第二单体单元；

将所述衬底按图案暴露于辐射，由此所述辐射敏感型产酸剂在所述光致抗蚀剂层的曝光区域通过所述辐射产生酸；和

将所述光致抗蚀剂层与包含有机溶剂的显影剂接触，从而所述光致抗蚀剂层的未曝光区域被所述显影剂溶液选择性除去，以在所述光致抗蚀剂层中形成图案化的结构。

14.权利要求13的方法，其还包括：

将所述图案化的结构转印到所述材料层。

15.权利要求13的方法，其中所述显影剂选自醚、二醇醚、芳烃、酮、酯和两种或更多种前述溶剂的组合。

16.权利要求13的方法，其还包括：

在所述接触步骤之后用第二种有机溶剂冲洗所述光致抗蚀剂层。

17.权利要求16的方法，其中所述第二种有机溶剂选自1-丁醇、甲醇、乙醇、1-丙醇、乙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,2-丙二醇、1-甲基-2-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、4-庚醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、2,4-二甲基-3-戊醇、3-乙基-2-戊醇、1-甲基环戊醇、2-甲基-1-己醇、2-甲基-2-己醇、2-甲基-3-己醇、3-甲基-3-己醇、4-甲基-3-己醇、5-甲基-1-己醇、5-甲基-2-己醇、5-甲基-3-己醇、4-甲基环己醇、1,3-丙二醇和两种或更多种前述溶剂的组合。