[发明专利]具有内含位置图案的电极的触敏装置的制造方法

权利要求书

1.一种对基底上的导体进行图案化的方法，所述方法包括：

提供通过自组装单层膜形成分子着墨并且具有含有凸起特征的凸纹图案的弹性压模，所述凸起特征限定包括独特位置标记的位置图案；

使着墨的所述压模的所述凸起特征接触涂覆金属的对可见光透明的基底；以及

对所述金属进行蚀刻，以在所述对可见光透明的基底上形成与着墨的所述压模的所述凸起特征相对应的导电微图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其中接触步骤的接触时间在0.1秒至30秒的范围内。

3.根据权利要求1所述的方法，其中低密度区域具有介于1%与5%之间的凸起特征平均面积密度值。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述压模中邻近印刷表面处的自组装单层膜形成分子的浓度介于0.05毫摩尔与20毫摩尔之间，并且接触步骤的接触时间在0.1秒至10秒的范围内。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述自组装单层膜形成分子包括十八硫醇。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述压模中邻近印刷表面处的自组装单层膜形成分子的浓度介于0.05毫摩尔与5毫摩尔之间，接触步骤的接触时间在0.1秒至10秒的范围内，并且所述自组装单层膜形成分子包括十六硫醇。

7.根据权利要求1所述的方法，其中低密度区域具有一致的凸起特征平均面积密度值。

8.根据权利要求1所述的方法，其中直线区段具有介于1微米至5微米之间的宽度值。

9.根据权利要求1所述的方法，其中在低密度区域相邻凸起特征之间的最大距离值为500微米。

10.根据权利要求1所述的方法，其中在所述凸纹图案中的所有非凸起点与直线凸起特征在所有方向上具有小于1毫米的最大间距。

11.根据权利要求1所述的方法，其中在所述凸纹图案中的所有非凸起点与直线凸起特征在所有方向上具有小于500微米的最大间距。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述压模浸有自组装单层膜形成分子，所述自组装单层膜形成分子包括硫醇、二烷基二硫化物、二烷基硫化物、烷基黄原酸盐、二硫代磷酸盐和二烷基硫代氨基甲酸盐。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述导电微图案的低密度区域包括导电网孔微图案。

14.根据权利要求1所述的方法，进一步包括将所述导电微图案电连接到触摸传感器驱动装置。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述凸纹图案包括经测量宽度为至少50微米的凸起特征。

16.根据权利要求15所述的方法，其中单层膜形成分子包括十八硫醇，所述压模中邻近印刷表面处的自组装单层膜形成分子的浓度介于0.5毫摩尔与10毫摩尔之间，并且接触步骤的接触时间在0.5秒至5秒的范围内。

17.根据权利要求15所述的方法，其中单层膜形成分子包括十六硫醇，所述压模中邻近印刷表面处的自组装单层膜形成分子的浓度介于0.5毫摩尔与1毫摩尔之间，并且接触步骤的接触时间在0.5秒至5秒的范围内。