[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201180055210.5 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN103221887A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 宫坂昌宏;远藤昌树;栉田昌孝;村松有纪子;锻治诚 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: G03F7/033 分类号: G03F7/033;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/029
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 感光性 树脂 组合 元件 图案 形成 方法 以及 印刷 布线 制造
【权利要求书】:

1.一种感光性树脂组合物,其含有:具有基于(甲基)丙烯酸的结构单元且分散度为1.6以下的粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及增感色素。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中,所述粘合剂聚合物进一步具有基于选自(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苄酯衍生物、苯乙烯以及苯乙烯衍生物中的至少一种聚合性单体的结构单元。

3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其中,所述粘合剂聚合物的酸值为90~250mgKOH/g。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述粘合剂聚合物的重均分子量为10000~100000。

5.根据权利要求4所述的感光性树脂组合物,其中,所述光聚合性化合物含有双酚A系二(甲基)丙烯酸酯化合物。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,所述光聚合引发剂含有2,4,5-三芳基咪唑二聚物。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的感光性树脂组合物,其中,进一步含有胺系化合物。

8.一种感光性元件,其具备支撑膜和使用权利要求1~7中任一项所述的感光性树脂组合物形成在所述支撑膜上的感光性树脂组合物层。

9.一种抗蚀图案的形成方法,其具有:

将使用权利要求1~7中任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光性树脂组合物层层叠在基板上的层叠工序;

向所述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线以使所述规定部分曝光而固化的曝光工序;以及

通过将所述感光性树脂组合物层的所述规定部分以外的部分从所述基板上除去而在所述基板上形成由所述感光性树脂组合物的固化物构成的抗蚀图案的显影工序。

10.根据权利要求9所述的抗蚀图案的形成方法,其中,所述活性光线的波长在340~430nm的范围内。

11.一种印刷布线板的制造方法,其包含将通过权利要求9或10所述的方法形成了抗蚀图案的基板进行蚀刻或镀覆的工序。

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