[发明专利]双折射性图案转印箔无效
| 申请号： | 201180055258.6 | 申请日： | 2011-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN103210328A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 兼岩秀树;山本祐也;池田怜男奈;伊藤英明 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B7/02;B32B7/12;B42D15/10 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 双折射 图案 转印箔 | ||
1.一种双折射性图案转印箔，其是在临时支撑体上具有至少一层含有2个以上双折射性不同的区域的图案化光学异向性层、与至少一层接着层的双折射性图案转印箔，其特征在于：所述接着层的延迟为40nm以下。
2.根据权利要求1所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，在所述接着层上施加有抗结块手段。
3.根据权利要求2所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，所述抗结块手段是添加至所述接着层中的微粒子。
4.根据权利要求2所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，所述抗结块手段是贴合至所述接着层表面的覆膜。
5.一种双折射性图案转印箔，其是在临时支撑体上具有至少一层含有2个以上双折射性不同的区域的图案化光学异向性层、与至少一层接着层的双折射性图案转印箔，其特征在于：在所述接着层上施加有抗结块手段。
6.根据权利要求2-5中任一项所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，其是以卷筒膜的形式提供。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，所述图案化光学异向性层是由含有具有至少1个反应性基的液晶性化合物的组合物所形成的层。
8.根据权利要求7所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，所述液晶性化合物至少具有自由基性的反应性基与阳离子性的反应性基。
9.根据权利要求8所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，所述自由基性的反应性基为丙烯酰基及/或甲基丙烯酰基，且所述阳离子性基为乙烯基醚基、氧杂环丁基及/或环氧基。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的双折射性图案转印箔，其特征在于，转印后的透射率为30％以上。
11.一种反射性物品，其特征在于：具有使用如权利要求1-10任一项所述的双折射性图案转印箔所转印的双折射性图案。
12.一种透明物品，其特征在于：其具有使用如权利要求1-10中任一项所述的双折射性图案转印箔所转印的双折射性图案。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180055258.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多用床头支架
- 下一篇：半导体封装用无铅玻璃和半导体封装用外套管
