[发明专利]接近式曝光装置以及接近式曝光方法

权利要求书

1.一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：

基板保持部，所述基板保持部用于把持基板；

掩模保持部，所述掩模保持部与所述基板对置并把持掩模；和

照明光学系统，所述照明光学系统用于向所述掩模照射图案曝光用光，

在使所述基板和所述掩模接近为具有预定间隙的状态下，借助所述掩模向所述基板照射来自所述照明光学系统的光，将所述掩模的图案转印到所述基板，其中，

所述照明光学系统具有准直半角调节机构，用于将准直半角调节为与转印到所述基板的图案的期望线宽相对应的预定的准直半角。

2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于：

所述照明光学系统还具有光源部和复眼透镜，所述复眼透镜由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自所述光源部的光的强度进行均衡化处理，

所述准直半角调节机构设置于所述复眼透镜的入射面侧或射出面侧，是用于对入射到所述多个透镜单元的任一单元的光或者从所述多个透镜单元的任一单元中射出的光进行遮光或减光的光强度降低部件。

3.根据权利要求2所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述光强度降低部件具有多个能够分别单独移动的减光片。

4.根据权利要求3所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述多个减光片由多种减光片构成，能够在所述减光片的种类的数目以上的多个减光率下进行遮光。

5.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统还具有光源部和复眼透镜，所述复眼透镜由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自所述光源部的光的强度进行均衡化处理，

所述准直半角调节机构为设置在所述光源部和所述复眼透镜之间、改变入射到所述复眼透镜的入射光直径或入射角的透镜。

6.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统还具有光源部和复眼透镜，所述复眼透镜由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自所述光源部的光的强度进行均衡化处理，

所述准直半角调节机构是能够改变光入射到所述复眼透镜的入射光直径、并能够相对于所述复眼透镜的入射面沿垂直方向移动的所述光源部。

7.根据权利要求2～6中任一项所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统还具有设置在所述光源部和所述复眼透镜之间、对来自所述光源部的光的强度进行均衡化处理的光均衡化光学部件。

8.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模的图案具有与转印于所述基板的图案的期望线宽不同的线宽。

9.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统还具有光源部和复眼透镜，所述复眼透镜由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自所述光源部的光的强度进行均衡化处理，

所述准直半角调节机构是设置在所述复眼透镜的射出面侧、对从所述多个透镜单元的任一单元所射出的光进行遮光的遮光部件。

10.根据权利要求9所述的接近式曝光装置，其特征在于，

来自所述光源部的光直接入射到所述复眼透镜。

11.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述照明光学系统具有：第一光源部，所述第一光源部照射在350nm以下的短波长时具有峰值波长的光；第二光源部，所述第二光源部照射光谱特性与所述第一光源部不同的光；和多个遮光部件，所述多个遮光部件能够对来自所述第一光源部以及所述第二光源部的光进行遮光，

所述照明光学系统通过控制所述多个遮光部件的开启时机，能够在不同的时刻照射所述第一光源部的光以及所述第二光源部的光。

12.根据权利要求11所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述多个遮光部件具有：能够对来自所述第一光源部的光进行遮光的第一遮光部件；和能够对来自所述第二光源部的光进行遮光的第二遮光部件。