[发明专利]悬浮液、研磨液套剂、研磨液、基板的研磨方法及基板

权利要求书

1.一种悬浮液，含有磨粒和水，其中，

所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，

且，所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液层的物质。

2.如权利要求1记载的悬浮液，其中，

在所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质。

3.如权利要求1或2记载的悬浮液，其中，

在所述磨粒的含量调节至0.0065质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的物质。

4.如权利要求1～3任意一项记载的悬浮液，其中，

在所述磨粒的含量调节至0.0065质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长450～600nm的光的吸光度在0.010以下的物质。

5.如权利要求1～4任意一项记载的悬浮液，其中，

在所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上的物质。

6.如权利要求1～5任意一项记载的悬浮液，其中，

所述4价金属元素的氢氧化物是将4价金属元素的盐与碱液混合而得的物质。

7.如权利要求1～6任意一项记载的悬浮液，其中，所述4价金属元素是4价铈。

8.一种研磨液套剂，其中，

该研磨液的构成成分被分为第1液体和第2液体分别保存，

将所述第1液体和所述第2液体混合成为研磨液，

所述第1液体是权利要求1～7任意一项记载的悬浮液，

所述第2液体含有添加剂和水。

9.如权利要求8记载的研磨液套剂，其中，

所述添加剂是从乙烯醇聚合物以及该乙烯醇聚合物的衍生物中所选出的至少1种。

10.如权利要求8或9记载的研磨液套剂，其中，

所述添加剂的含量以研磨液总质量为基准在0.01质量％以上。

11.一种研磨液，含有磨粒、添加剂和水，其中，

所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，

且，所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液层的物质。

12.如权利要求11记载的研磨液，其中，

在所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的物质。

13.如权利要求11或12记载的研磨液，其中，

在所述磨粒的含量调节至0.0065质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的物质。

14.如权利要求11～13任意一项记载的研磨液，其中，

在所述磨粒的含量调节至0.0065质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长450～600nm的光的吸光度在0.010以下的物质。

15.如权利要求11～14任意一项记载的研磨液，其中，

在所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒，是使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50％/cm以上的物质。

16.如权利要求11～15任意一项记载的研磨液，其中，

所述4价金属元素的氢氧化物，是将4价金属元素的盐与碱液混合而得的物质。

17.如权利要求11～16任意一项记载的研磨液，其中，所述4价金属元素是4价铈。

18.如权利要求11～17任意一项记载的研磨液，其中，

所述添加剂是从乙烯醇聚合物以及该乙烯醇聚合物的衍生物中所选出的至少1种。

19.如权利要求11～18任意一项记载的研磨液，其中，

所述添加剂的含量以研磨液总质量为基准在0.01质量％以上。