[发明专利]在玻璃中形成高密度孔阵列的方法有效
申请号: | 201180057698.5 | 申请日: | 2011-11-30 |
公开(公告)号: | CN103237771B | 公开(公告)日: | 2016-10-19 |
发明(设计)人: | H·D·博克;R·C·伯克特;D·R·哈维;A·M·斯特列利佐夫 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;C03C23/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 项丹 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 形成 高密度 阵列 方法 | ||
1.一种在玻璃中制造高密度孔阵列的方法,该方法包括:
提供具有前表面的玻璃片;
用UV激光束照射所述玻璃片的前表面,用透镜将所述激光束聚焦在玻璃片前表面的+/-100μm内,所述透镜的数值孔径在0.1-0.4的范围内,从而产生从玻璃片的前表面延伸进入玻璃片中的开孔,所述开孔的直径在5-15μm的范围内,长宽比至少为20:1。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述照射包括使用200-400nm波长范围的激光束。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述照射包括使用300-400nm波长范围的激光束。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,照射步骤中所使用的近-UV激光的运行波长为355+/-5μm。
5.如权利要求1-4中任一项所述的方法,其特征在于,对于厚度范围为0.3-0.63mm的玻璃,照射步骤中所采用的透镜的数值孔径在0.1-0.15的范围内。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,对于厚度范围为0.1-0.3mm的玻璃,透镜的数值孔径在0.25-0.4的范围内。
7.如权利要求1-6中任一项所述的方法,其特征在于,在照射步骤过程中,以5-50kHz的重复频率运行激光。
8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,在照射步骤过程中,以10-20kHz的重复频率运行激光。
9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,在照射步骤过程中,以12-18kHz的重复频率运行激光。
10.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,照射步骤包括用UV激光束照射玻璃片的前表面,照射的持续时间为8-150毫秒/孔。
11.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,对于厚度约为0.1mm的玻璃,照射步骤包括用UV激光束照射玻璃片的前表面,照射的持续时间约为10毫秒/孔。
12.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,照射步骤包括用UV激光束照射玻璃片的前表面,照射的持续时间约为10毫秒每1/10mm的玻璃厚度。
13.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,所述玻璃片是玻璃板,所述照射步骤包括用UV激光束照射玻璃板的前表面,照射的持续时间由实验或计算决定,使得该持续时间会导致所产生的孔刚好延伸到达玻璃板的背表面。
14.如权利要求1-9中任一项所述的方法,其特征在于,所述照射步骤包括用UV激光束照射玻璃片的前表面,照射的持续时间由实验或计算决定,使得该持续时间会导致所产生的孔延伸到达玻璃片内的某一位置。
15.如权利要求1-14中任一项所述的方法,其特征在于,所述照射步骤包括用具有除了圆形形状之外的形状的激光束进行照射。
16.如权利要求1-15中任一项所述的方法,其特征在于,所述照射步骤包括用激光束进行照射,该激光束的朝向与玻璃片前表面呈除了90度之外的角度。
17.如权利要求1-16中任一项所述的方法,其特征在于,该方法还包括在酸中蚀刻玻璃片。
18.如权利要求17所述的方法,其特征在于,在酸中蚀刻的步骤还包括用酸掺混物进行蚀刻。
19.如权利要求18所述的方法,其特征在于,所述酸掺混物包含20%HF+10%HNO3的溶液。
20.如权利要求1-19中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括在照射之后且在蚀刻之前,对玻璃片的前表面进行抛光。
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