[发明专利]偏振片的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种偏振片的制造方法。

背景技术

在液晶显示装置中使用含有偏振膜的偏振片。作为所述偏振片的制造方法，例如公开了下述方法：在聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）基材上形成聚乙烯醇（PVA）膜，与所述基材一起将所述PVA膜进行拉伸，然后将所述PVA膜染色，由此进行制作（例如参照专利文献1）。另外，还公开了下述方法：同样地在PET基材上形成PVA膜，在拉伸后使所述PET基材结晶化，然后将所述PVA膜染色（例如参照专利文献2）。此外，还公开了下述方法：同样地在PET基材上形成PVA膜，进行拉伸和染色，然后将所述PVA膜转印至其他基材，并将所述PET基材剥离（例如参照专利文献3）。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利4895769号公报

专利文献2：美国专利4659523号公报

专利文献3：日本特开2001-343521号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，通过上述专利文献1中记载的方法制作的偏振片在将作为拉伸基材的PET基材直接作为偏振膜的保护层使用时，由于PET基材的耐热性不充分，因此加热等的尺寸变化大，在进行耐久性试验时，有时会产生尺寸收缩、或者偏振片自液晶单元卷缩等问题。另外，在通过上述专利文献2中记载的方法制作的偏振片中，通过PET基材的结晶化，可能改善所述基材的耐热性等。然而，在染色前进行结晶化处理时，不仅PET，同时就连PVA也会结晶化。其结果，PVA的染色性降低，因此在染色时需要高浓度的碘等二色性色素，进而，染色所需时间变长，因此存在生产率降低这样的问题。在通过上述专利文献3中记载的方法制作的偏振片中，可以将偏振膜转印至具有耐热性的基材，但是需要废弃作为拉伸基材的PET基材，另外，需要用于转印的新的基材，从生产率的角度出发称不上优选。

因此，本发明的目的在于提供一种在不降低偏振膜的染色性等、并且不需要偏振膜的转印、剥离工序的情况下制造耐热性充分的偏振片的方法。

用于解决课题的手段

为了达成上述目的，本发明的偏振片的制造方法的特征在于，其为在聚酯树脂基材上层叠有由聚乙烯醇树脂形成的偏振膜的偏振片的制造方法，

其包含下述工序：

拉伸工序：将在聚酯树脂基材上形成有聚乙烯醇树脂层的层叠体进行拉伸，

染色工序：将所述聚乙烯醇树脂层染色的染色工序，和

结晶化工序：使所述聚酯树脂基材结晶化；

并且，在所述染色工序之后实施所述结晶化工序。

发明的效果

根据本发明，能够提供一种在不降低偏振膜的染色性等、并且不需要偏振膜的转印、剥离工序情况下制造耐热性充分的偏振片的方法。

附图说明

图1为示出通过本发明的制造方法得到的偏振片的构成的一个例子的截面图。

具体实施方式

本发明的制造方法中，在所述拉伸工序中，优选拉伸至所述聚酯树脂基材的下述取向性Δn为0.03以上。由于有时随着取向变高而拉伸张力变大、稳定地拉伸变难，因此所述Δn的上限值例如为0.25。

Δn=nx-ny

nx：在所述聚酯树脂基材的面内的折射率最大的方向的折射率

ny：在所述聚酯树脂基材的面内的与所述nx的方向垂直的方向的折射率

本发明的制造方法中，在所述结晶化工序中，优选按照使所述聚酯树脂基材的由基于差示扫描量热测定（DSC）的熔融热量表示的结晶度达到25～45mJ/mg的范围的方式进行结晶化。更优选按照使所述结晶度达到25～40mJ/mg的范围的方式进行结晶化。

本发明的制造方法中，在所述结晶化工序中，优选在超过聚酯树脂基材的玻璃化转变温度（Tg）的温度下进行结晶化，特别优选在80～120℃的范围下进行结晶化。不过，本发明只要在超过聚酯树脂基材的Tg的温度下进行结晶化，则不限定于此。本发明的制造方法中，所述结晶化工序中的结晶化处理温度例如为70～200℃的范围，优选为75～180℃的范围，更优选为80～150℃的范围。

本发明的制造方法中，在所述结晶化工序中，优选按照使所述聚酯树脂基材的雾度值达到1％以下的方式进行结晶化。

本发明的制造方法中，作为所述聚酯树脂基材，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂或其共聚物的基材。