[发明专利]用于生产硬盘基材的方法和硬盘基材

权利要求书

1.一种用于生产硬盘基材的方法，所述硬盘基材包括无电NiP电镀膜，所述方法包括以下步骤：

第一电镀步骤，将基材浸没在包含具有平滑效果的添加剂的第一无电NiP电镀浴中以在所述基材的表面上形成所述无电NiP电镀膜的下层，所述下层具有小于所述表面的平均表面粗糙度的平均表面粗糙度；和

第二电镀步骤，将在所述第一电镀步骤中在其上形成所述无电NiP电镀膜的所述下层的所述基材浸没在第二无电NiP电镀浴中以形成所述无电NiP电镀膜的上层，所述上层具有对酸溶液的耐腐蚀性。

2.根据权利要求1所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述添加剂包括有机硫化合物。

3.根据权利要求2所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述有机硫化合物包含氮。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述第二无电NiP电镀浴不包括加入到其中的有机硫化合物。

5.根据权利要求2所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述有机硫化合物包括硫脲、硫代硫酸钠、磺酸盐、异噻唑酮化合物、月桂基硫酸钠、2，2’-二硫二吡啶、2，2’-二硫代二苯甲酸和双二硫化物中的至少一种。

6.根据权利要求2所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述有机硫化合物的包含量是0.01ppm或更大且20ppm或更小。

7.根据权利要求2所述的用于生产硬盘基材的方法，其中所述有机硫化合物的包含量是0.1ppm或更大且5ppm或更小。

8.一种通过根据权利要求1至7中任一项所述的生产方法生产的硬盘基材。