[发明专利]变焦镜头、成像设备和制造变焦镜头的方法有效

专利信息
申请号: 201180059190.9 申请日: 2011-11-10
公开(公告)号: CN103250084A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 佐藤治夫;田中一政 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B15/20 分类号: G02B15/20;G02B13/18
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 鲁山;孙志湧
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 变焦镜头 成像 设备 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种变焦镜头,按从物体的顺序包括:

具有正屈光力的第一透镜组;

具有负屈光力的第二透镜组;

具有正屈光力的第三透镜组;以及

具有正屈光力的第四透镜组,

通过改变所述透镜组之间的空气间隔来执行变焦,

所述第四透镜组按从物体的顺序包括:第一正透镜构件、具有面向物体的凸面的第二正透镜构件,以及负透镜构件,并且

满足下述条件式:

0.00<(Rb2-Rb1)/(Rb2+Rb1)<1.00

其中,Rb2表示构成所述第四透镜组并具有面向物体的凸面的所述第二正透镜构件的像侧面的曲率半径,并且Rb1表示构成所述第四透镜组并具有面向物体的凸面的所述第二正透镜构件的物体侧面的曲率半径。

2.根据权利要求1所述的变焦镜头,其中,

在所述第一透镜组和所述第二透镜组的光学面中的至少一个面上,形成抗反射膜,并且所述抗反射膜包括通过湿法工艺形成的至少一个层。

3.根据权利要求1或2所述的变焦镜头,其中,

满足下述条件式:

0.45<(-Fc)/F4<3.00

其中,Fc表示构成所述第四透镜组的所述负透镜构件的焦距,并且F4表示所述第四透镜组的焦距。

4.根据权利要求1至3的任何一项所述的变焦镜头,其中,

满足下述条件式:

0.10<Fab/F4<2.00

其中,Fab表示构成所述第四透镜组的、所述第一正透镜构件和具有面向物体的凸面的所述第二正透镜构件的组合焦距,并且F4表示所述第四透镜组的焦距。

5.根据权利要求1至4的任何一项所述的变焦镜头,其中,

满足下述条件式:

0.30<(-F2)/Fw<2.00

其中,F2表示所述第二透镜组的焦距,并且Fw表示在广角端状态下,当聚焦无限远时,所述变焦镜头的焦距。

6.根据权利要求1至5的任何一项所述的变焦镜头,其中,

满足下述条件式:

45<νdc<85

其中,νdc表示构成所述第四透镜组的所述负透镜构件的阿贝数。

7.根据权利要求1至6的任何一项所述的变焦镜头,其中,

满足下述条件式:

0.5<Bfw/Fw<2.0

其中,Bfw表示在广角端状态下,当聚焦无限远时,所述变焦镜头的后焦长度,并且Fw表示在广角端状态下,聚焦无限远时,所述变焦镜头的焦距。

8.根据权利要求1至7的任何一项所述的变焦镜头,其中,

所述第四透镜组具有至少一个非球面。

9.根据权利要求1至8的任何一项所述的变焦镜头,其中,

构成所述第四透镜组的所述负透镜构件具有至少一个非球面。

10.根据权利要求1至9的任何一项所述的变焦镜头,其中,

通过在光轴上移动具有负屈光力的所述第二透镜组来执行将所述变焦镜头聚焦到近距离物体上。

11.根据权利要求2至10的任何一项所述的变焦镜头,其中,

其中,所述抗反射膜是多层膜,并且

由所述湿法工艺形成的所述层是构成所述多层膜的层中最接近表面的层。

12.根据权利要求2至11的任何一项所述的变焦镜头,其中,

折射率nd,即在d线处由所述湿法工艺形成的所述层的折射率为1.30或更小。

13.根据权利要求2至12的任何一项所述的变焦镜头,其中,

所述第三透镜组具有孔径光阑,并且

在其上形成所述抗反射膜的所述光学面当从所述孔径光阑看时为凹面。

14.根据权利要求13所述的变焦镜头,其中,

当从所述孔径光阑看时为凹的所述透镜面是被包括在所述第一透镜组和所述第二透镜组中的至少一个透镜的像侧透镜面。

15.根据权利要求13所述的变焦镜头,其中,

当从所述孔径光阑看时为凹的所述透镜面是被包括在所述第一透镜组和所述第二透镜组中的至少一个透镜的物体侧透镜面。

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