[发明专利]用于影响和/或检测磁性颗粒的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201180059565.1 申请日: 2011-11-29
公开(公告)号: CN103260507A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: B·格莱希;J·E·拉米尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: A61B5/05 分类号: A61B5/05
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 影响 检测 磁性 颗粒 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于工作在磁性颗粒成像模式中以影响和/或检测视场(28)中的磁性颗粒并用于工作在磁共振成像模式中的设备(100),所述设备包括:

-选择装置,其包括选择场信号生成器单元(110)和选择场线圈(116),用于生成其磁场强度具有空间图案的磁性选择场(50),从而在所述视场(28)中形成具有低磁场强度的第一子区(52)和具有更高磁场强度的第二子区(54),其中,在所述第一子区(52)中所述磁性颗粒的磁化未饱和,且其中,在所述第二子区(54)中所述磁性颗粒的磁化饱和,

-驱动装置,其包括驱动场信号生成器单元(130)和驱动场线圈(136a,136b,136c),用于利用磁性驱动场改变所述视场(28)中两个子区(52,54)的空间位置,使得磁性物质的磁化发生局部改变,以及

-聚焦装置,其包括聚焦场信号生成器单元(120)和聚焦场线圈单元(126),用于利用磁性聚焦场改变所述视场(28)的空间位置,

其中,所述聚焦场线圈单元(126)包括布置成在不同方向上生成磁性聚焦场分量的至少六个聚焦场线圈(32a-32d,34a-34d;33a-33f),其中,第一组至少三个聚焦场线圈(32a,32c,34a,34c;33a-33c)布置于所述视场(28)的第一侧上,并且第二组至少三个聚焦场线圈(32b,32d,34b,34d;33d-33f)布置于所述视场(28)的与所述第一侧相对的第二侧上。

2.根据权利要求1所述的设备,

其中,每组聚焦场线圈的所述至少三个聚焦场线圈(32a-32d,34a-34d;33a-33f)基本布置于相应的聚焦场线圈平面(P1,P2)中。

3.根据权利要求1所述的设备,

其中,不同组的相应两个聚焦场线圈形成具有基本相同的对称轴的一对聚焦场线圈,其中,不同对的对称轴布置成基本彼此平行并布置在相对于所述视场(28)的不同位置。

4.根据权利要求1所述的设备,

其中,所述聚焦场线圈单元(126)包括至少八个聚焦场线圈(32a-32d,34a-34d),所述八个聚焦场线圈被分配到两个聚焦场线圈子单元(320,321),每个子单元都包括两对聚焦场线圈(32a-32d,34a-34d),所述两个聚焦场线圈子单元(320,321)的所述八个聚焦场线圈(32a-32d,34a-34d)布置于所述视场(28)的不同侧上,其中,四对中每对的两个相应线圈基本彼此面对。

5.根据权利要求4所述的设备,

其中,每两对聚焦场线圈的四个聚焦场线圈基本布置于相应的聚焦场线圈层(L1,L2)中,其中,所述两个相应的聚焦场线圈层基本彼此正交地布置。

6.根据权利要求5所述的设备,

其中,所述两个聚焦场线圈子单元(126a,126b;320,321)的每个的两个相应聚焦场线圈布置于相应的聚焦场线圈平面(P1,P2)中,其中,所述两个相应的聚焦场线圈平面(P1,P2)基本彼此平行地布置于所述视场(28)的不同侧上。

7.根据权利要求6所述的设备,

其中,所述两个相应的聚焦场线圈平面(P1,P2)布置成垂直于所述两个相应的聚焦场线圈层(L1,L2)。

8.根据权利要求4所述的设备,

包括第三聚焦场线圈子单元(126c),所述第三聚焦场线圈子单元包括一对聚焦场线圈(36),所述两个聚焦场线圈基本彼此面对。

9.根据权利要求6和8所述的设备,

其中,所述第三聚焦场线圈子单元(126c)的所述聚焦场线圈(36)基于布置成与所述两个相应的聚焦场线圈平面(P1,P2)平行。

10.根据权利要求4所述的设备,

其中,所述聚焦场线圈(32e-32h)具有基本D形形状,其中,不同对的相应两个聚焦场线圈的直臂彼此相邻。

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