[发明专利]用于产生标准光平面的锥透镜系统/盖罩系统的优化有效
申请号: | 201180059910.1 | 申请日: | 2011-09-20 |
公开(公告)号: | CN103250027B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | W.比特纳;T.齐默曼 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | G01C15/00 | 分类号: | G01C15/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 宣力伟,杨国治 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 产生 标准 平面 透镜 系统 优化 | ||
1.一种用于产生标准光平面(410)的光标记装置,所述光标记装置至少具有:
一个具有用于产生第一光束(401)的光源(100)以及用于由所述第一光束(401)产生第一光平面(406)的、能够围绕第一旋转轴线和第二旋转轴线倾斜的光学偏转元件(200)的光学单元(100、200);和一个用于由所述第一光平面(406)产生所述标准光平面(410)的盖罩(300);
其特征在于,所述盖罩(300)具有窗(303),并且所述标准光平面(410)与所述光学偏转元件基于盖罩的相对位置无关地位于平面中。
2.按权利要求1所述的光标记装置,其特征在于,所述第一旋转轴线、所述第二旋转轴线与所述盖罩(300)的对称轴线分别相互正交地延伸并且基本上在旋转点(500)中相交,并且其中所述旋转点(500)位于所述光学偏转元件(200)内部。
3.按权利要求1或2所述的光标记装置,其中,所述光源(100)和所述光学偏转元件(200)相互固定地设置,从而使得整个所述光学单元(100、200)能够围绕第一旋转轴线和第二旋转轴线倾斜。
4.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述盖罩(300)的窗是连续的并且是柱形对称的。
5.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述第一光平面(406)与所述窗(303)的盖罩射入面(302)相交,并且其中在所述第一光平面(406)与所述盖罩射入面(302)之间的每个交点上与所述光学偏转元件(200)的倾斜位置无关地在所述第一光平面(406)与所述盖罩射入面(302)之间基本上围成恒定的角度。
6.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述盖罩(300)的窗(303)具有局部变化的厚度和/或局部变化的折射率。
7.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述标准光平面(410)基于与所述标准光平面(410)正交延伸的第一轴线基本上准直。
8.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述光学偏转元件(200)构造为凹锥透镜(200a)或者凸锥透镜(200b)或五棱镜(200c)。
9.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述光学偏转元件(200)产生第一光平面(406),所述第一光平面基于与所述标准光平面(410)正交延伸的第一轴线发散,并且其中所述盖罩(300)由所述第一光平面(406)产生所述标准光平面(410),所述标准光平面基于所述第一轴线基本上准直。
10.按权利要求1所述的光标记装置,其中,所述光源(100)具有用于产生发散的光束(400)的发光二极管(110)和用于将所述发散的光束(400)准直成第一光束(401)的透镜(120)。
11.按权利要求9所述的光标记装置,其中,所述第一光束(401)是发散的或会聚的或准直的。
12.按权利要求2所述的光标记装置,其中,所述光学单元(100、200)能够借助于万向悬挂围绕所述旋转点(500)倾斜地支承。
13.按权利要求12所述的光标记装置,其中,所述万向悬挂具有用于确定所述光学单元(100、200)基于铅垂线的斜度的斜度传感器(600)和用于调整所述光学单元(100、200)基于铅垂线的斜度的马达(700)。
14.一种用于借助于光标记装置产生标准光平面(410)的方法,所述光标记装置至少具有:
一个具有用于产生第一光束(401)的光源(100)的光学单元(100、200),
一个用于由所述第一光束(401)产生第一光平面(406)的、能够围绕第一旋转轴线和第二旋转轴线倾斜的光学偏转元件(200),
一个具有用于由所述第一光平面(406)产生所述标准光平面(410)的窗(303)的盖罩(300);
其特征在于,由所述光源(100)产生且由所述光学偏转元件(200)偏转的第一光束(401)在穿过所述窗(303)之前如下改变,使得在射束偏转后在所述窗(303)上得到与所述光学偏转元件基于盖罩的相对位置无关地形成平面的标准光平面。
15.按权利要求14所述的方法,其中,所述第一光束(401)在穿过所述窗(303)之前通过所述光学偏转元件(200)改变。
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