[发明专利]利用电子束技术产生臭氧和等离子体无效

专利信息
申请号: 201180060362.4 申请日: 2011-12-16
公开(公告)号: CN103262220A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 卡维·巴赫塔里 申请(专利权)人: 日立造船株式会社
主分类号: H01L21/306 分类号: H01L21/306
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 陈桂香;褚海英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 利用 电子束 技术 产生 臭氧 等离子体
【权利要求书】:

1.一种用于产生等离子体或臭氧的系统,其包括:

电子束发射器,所述电子束发射器具有电子发生腔室,所述电子束发射器被设置用来发出电子束,所述电子束发射器还具有位于所述电子发生腔室的一端处的阻挡件,所述阻挡件包括电子可渗透材料以提供所述电子束穿过的窗口,且所述阻挡件密封所述电子发生腔室以防止物质从所述电子发生腔室中逸出,并且所述阻挡件还维持差压和真空度;

反应腔室,所述反应腔室被布置成与所述阻挡件相邻,所述反应腔室用来接收所述电子束且具有允许气体从所述反应腔室中流过的通道;以及

输入气体源,所述输入气体源用于将输入气体引入到所述反应腔室中,使得所述输入气体能够在所述反应腔室内与所述电子束反应从而形成输出气体,所述输出气体包含等离子体形式或臭氧浓度形式的活性气体,且所述输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。

2.如权利要求1所述的系统,其还包括控制器,所述控制器用于控制所述电子束发射器的电流和加速电压以操控所述电子束的特性,从而在所述反应腔室内获得所选的能量分布。

3.如权利要求1所述的系统,其还包括第二电子束发射器,所述第二电子束发射器被设置用来发出要进入所述反应腔室中的第二电子束。

4.如权利要求1所述的系统,其还包括冷却通道,所述冷却通道被设置用来调节所述反应腔室内的温度。

5.如权利要求1所述的系统,其还包括二次电子发生器,所述二次电子发生器被设置用来阻挡所述电子束的路径并产生二次电子。

6.一种用于产生等离子体或臭氧的方法,其包括:

通过具有电子发生腔室的电子束发射器发出电子束,且所述电子束穿过布置在所述电子发生腔室的一端处的阻挡件,其中所述阻挡件包含电子可渗透材料,所述阻挡件提供所述电子束穿过的窗口,所述阻挡件密封所述电子发生腔室以防止物质从所述电子发生腔室中逸出,并且所述阻挡件还维持差压和真空度;

通过输入气体源将输入气体引入到被布置成与所述阻挡件相邻以用于接收所述电子束的反应腔室,使得所述输入气体能够在所述反应腔室内与所述电子束反应从而形成含有等离子体或臭氧浓度的输出气体;以及

将所述输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。

7.如权利要求6所述的方法,其还包括:通过控制器来控制所述电子束发射器的电流和加速电压以操控束特性,从而在所述反应腔室内获得所选的能量分布。

8.如权利要求6所述的方法,其还包括:通过第二电子束发射器来发出要进入所述反应腔室中的第二电子束。

9.如权利要求6所述的方法,其还包括:通过冷却通道来调节所述反应腔室内的温度。

10.如权利要求6所述的方法,其还包括:通过二次电子发生器来阻挡所述电子束的路径,以产生二次电子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立造船株式会社,未经日立造船株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180060362.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top