[发明专利]辐射源模块及流体处理系统

权利要求书

1.一种用于在流体处理系统中使用的辐射源模块，所述辐射源模块包括：

壳体，具有入口、出口和设置在入口与出口之间的流体处理区；所述流体处理区包括由底板表面相互连接的第一壁表面和第二壁表面，所述第一壁表面、所述第二壁表面和所述底板表面配置为接收通过所述流体处理区的流体流；

至少一个辐射源组件，相对于所述第一壁表面和所述第二壁表面紧固；和

模块移动耦合元件，连接至所述壳体并且配置为耦合至模块移动元件，以准许所述辐射源模块被安装至所述流体处理系统中和从所述流体处理系统抽出。

2.根据权利要求1所述的辐射源模块，其中所述第一壁表面相对于所述壳体可移除。

3.根据权利要求1-2中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第二侧壁表面相对于所述壳体可移除。

4.根据权利要求1-3中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述壳体进一步包括将所述第一壁表面和所述第二壁表面相互连接的顶表面；所述顶部部分、底板部分、第一壁表面和第二壁表面结合以限定外壳，所述外壳具有大体上闭合的横截面以接收所述流体流。

5.根据权利要求1-4中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第一壁表面包括突出到所述流体处理区中的第一流体偏转元件。

6.根据权利要求1-4中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第一壁表面包括突出到所述流体处理区中的多个第一流体偏转元件。

7.根据权利要求6中所述的辐射源模块，其中所述多个第一流体偏转元件沿着所述第一壁表面相对于通过所述流体处理区的所述流体流方向成间隔关系。

8.根据权利要求1-7中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第二壁表面包括突出到所述流体处理区中的第二流体偏转元件。

9.根据权利要求1-7中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第二壁表面包括突出到所述流体处理区中的多个第二流体偏转元件。

10.根据权利要求9中所述的辐射源模块，其中所述多个第二流体偏转元件沿着所述第二壁表面相对于通过所述流体处理区的所述流体流方向成间隔关系。

11.根据权利要求1-10中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第一壁表面包括第一贮容部分。

12.根据权利要求1-10的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第一个壁表面包括多个第一贮容部分。

13.根据权利要求12中所述的辐射源模块，其中所述多个第一贮容部分沿着所述第一壁表面相对于通过所述流体处理区的所述流体流方向成间隔关系。

14.根据权利要求1-13中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第二壁表面包括第二贮容部分。

15.根据权利要求1-13中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第二壁表面包括多个第二贮容部分。

16.根据权利要求15中所述的辐射源模块，其中所述多个第二贮容部分沿着所述第二壁表面相对于通过所述流体处理区的所述流体流方向成间隔关系。

17.根据权利要求1-16中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述外壳包括密封元件，所述密封元件配置为接触所述流体处理系统的表面。

18.根据权利要求17所述的辐射源模块，其包括相对于所述一对对置侧壁紧固的多个辐射源组件。

19.根据权利要求1-18中的任何一项所述的辐射源模块，其中每个辐射源组件都包括辐射源。

20.根据权利要求19所述的辐射源模块，其中所述辐射源设置在保护套管中。

21.根据权利要求20所述的辐射源模块，其中所述保护套管包括闭合端和开放端。

22.根据权利要求1-21中的任何一项所述的辐射源模块，其中每个辐射源组件都包括紫外线辐射源。

23.根据权利要求1-21中的任何一项所述的辐射源模块，其中每个辐射源组件都包括低压高输出紫外线辐射源。

24.根据权利要求1-23中的任何一项所述的辐射源模块，其中所述第一壁表面和所述第二壁表面大体上彼此平行。