[发明专利]对用于校正介质对光信号的作用的设备进行配置的方法和系统、用于校正该作用的方法、设备和系统

权利要求书

1.一种用于对设备（100）进行配置以校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的方法（200），所述设备（100）包括至少一个光学元件（106₁-106_n），所述至少一个光学元件（106₁-106_n）的空间相位剖面能够被单独调整，所述方法（100）包括如下步骤：

-将第一光信号（408）传播（206）穿过所述介质（412），该传播步骤（206）提供所谓的失真信号（414）；

-将所述失真信号（414）传播（210）穿过所述设备（100）；

-将被称为参考信号的第二光信号（410）传播（210）穿过所述设备（100），所述参考信号（410）与所述第一信号（408）相同；

-优化（212）所述失真信号（414）与所述参考信号（410）之间的干扰，该优化步骤（212）包括对于至少一个光学元件（106₁-106_n）进行下列步骤的至少一次迭代：

-对所述失真信号（414）与所述参考信号（410）之间的至少一个干扰参数进行测量（214）；以及

-根据所述干扰参数修改（216）至少一个光学元件（106₁-106_n）的相位剖面。

2.根据权利要求1所述的方法，其中测量干扰参数的步骤（214）包括为每个光学元件测量如下参数的步骤：

-用于每个光学元件（106₁-106_n）的若干区域的干扰参数；和/或

-用于每个光学元件（106₁-106_n）的每个像素（502₁-502_p）的干扰参数；和/或

-用于全部光学元件（106₁-106_n）的干扰参数。

3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中干扰参数包括与由所述参考信号（410）和所述失真信号（414）的干扰所获得的干扰信号的强度相关的参数（604₁-604_p）。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中修改光学元件（106₁-106_n）的空间相位剖面的步骤（216）包括对由所述光学元件（106₁-106_n）的至少一个区域和/或至少一个像素（502₁-502_p）向光信号施加的相位延迟进行修改。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括：在所述参考信号（410）传播穿过所述设备（100）之前对所述参考信号（410）进行相位调制的步骤（208）。

6.根据权利要求5所述的方法，还包括：测量所述参考信号（410）与所述失真信号（414）之间的干扰可见度参数的步骤（220）。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中一个接一个地为所述校正设备（100）的每个光学元件（106₁-106_n）实现优化步骤（212）。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括从唯一的光信号（404）生成所述第一信号（408）和所述参考信号（410）的步骤（202）。

9.如权利要求8所述的方法，包括对所述唯一的光信号（408）进行空间调制的步骤（201）。

10.一种计算机程序，包括在计算机或计算装置执行所述计算机程序时实现根据前述权利要求中任一项所述的方法中的步骤的指令。

11.一种用于校正介质（412）对已传播穿过所述介质（412）的光信号的作用的设备（100），包括至少一个光学元件（106₁-106_n），所述至少一个光学元件（106₁-106_n）的空间相位剖面能够被单独调整，所述设备（100）根据权利要求1至9中任一项所述的方法（200）配置。