[发明专利]光压印用树脂组合物、图案形成方法及蚀刻掩模

权利要求书

1.光压印用树脂组合物，其特征在于，包含光固化性单体(A)、光固化性单体(B)和光聚合引发剂(C)，所述光固化性单体(A)含有至少一种下式(1)表示的咔唑化合物，所述光固化性单体(B)含有选自下式(2)、式(3)和式(4)表示的化合物的至少一种，且光固化性单体(A)和光固化性单体(B)的重量比、即光固化性单体(A)的重量/光固化性单体(B)的重量为30/70～87/13；

[化1]

式(1)：

式(1)中，R₁表示-CH=CH₂、-CH₂CH₂-O-CH=CH₂、-CH₂CH₂-O-CO-CH=CH₂、-CH₂CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-CH₂-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油基；R₂、R₃可以相同或不同，表示氢或碳数1～4的烷基；

[化2]

式(2)：

式(2)中，R₄、R₅可以相同或不同，表示-O-CH=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CH=CH₂、-O-CO-CH=CH₂、-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CO-CH=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油醚基；R₆、R₇可以相同或不同，表示氢或碳数1～4的烷基；

[化3]

式(3)：

式(3)中，X表示-O-CH=CH₂、-CH₂-O-CH=CH₂、-O-CO-CH=CH₂、-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-CH₂-O-CO-CH=CH₂、-CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油醚基，A1～A4分别独立地表示氢原子、甲基、乙基、苯基、-OH、-CH₂-OH、-O-CH=CH₂、-CH₂-O-CH=CH₂、-O-CO-CH=CH₂、-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-CH₂-O-CO-CH=CH₂、-CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油醚基；这里，A1～A4的至少一个是-O-CH=CH₂、-CH₂-O-CH=CH₂、-O-CO-CH=CH₂、-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-CH₂-O-CO-CH=CH₂、-CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油醚基；m、n、o表示0或1；

[化4]

式(4)：

式(4)中，R₈、R₉可以相同或不同，表示-O-CH=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CH=CH₂、-O-CO-CH=CH₂、-O-CO-C(CH₃)=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CO-CH=CH₂、-O-CH₂CH₂-O-CO-C(CH₃)=CH₂或缩水甘油醚基；p表示0或1以上的整数。