[发明专利]氮化镓烧结体或氮化镓成形物以及它们的制造方法

权利要求书

1.一种氮化镓烧结体，其特征在于，该氮化镓烧结体的密度为2.5g/cm³以上且低于5.0g/cm³，基于X射线衍射测定的氧化镓的(002)面的峰相对于氮化镓的(002)面的峰强度比低于3%。

2.根据权利要求1所述的氮化镓烧结体，其特征在于，其含有11atm%以下的氧量。

3.根据权利要求1或2所述的氮化镓烧结体，其特征在于，所述氮化镓烧结体中包含的空隙具有开气孔和闭气孔，所述开气孔相对于所述空隙的总体积的体积率为70%以上。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氮化镓烧结体，其特征在于，所述烧结体在所述烧结体中包含的空隙的至少一部分包含金属镓，所述氮化镓和所述金属镓在所述烧结体中以各自的相的形式存在，以及所述烧结体整体中的Ga/(Ga＋N)的摩尔比为55%以上且80%以下。

5.根据权利要求4所述的氮化镓烧结体，其特征在于，所述空隙的总体积的30%以上被金属镓填满。

6.根据权利要求4或5所述的氮化镓烧结体，其特征在于，其具有3.20g/cm³以上且低于6.05g/cm³的密度。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的氮化镓烧结体，其特征在于，其具有1Ω·cm以下的电阻值。

8.一种权利要求1～3中任一项所述的氮化镓烧结体的制造方法，其特征在于，其包括：将比表面积(BET)为0.4m²/g以上且15m²/g以下、松装密度为0.4g/cm³以上以及静止角为40°以下的氮化镓粉末焙烧而获得烧结体的工序；以及在包含氨的气氛下对所述烧结体进行加热处理的工序。

9.根据权利要求8所述的氮化镓烧结体的制造方法，其特征在于，所述氮化镓粉末是将氧化镓粉末在氨气氛下以1000～1100℃进行氮化处理而得到的。

10.一种权利要求4～7中任一项所述的氮化镓烧结体的制造方法，其特征在于，其包括：使液态的金属镓浸透到权利要求1～3中任一项所述的氮化镓烧结体中的工序。

11.根据权利要求10所述的氮化镓烧结体的制造方法，其特征在于，使液态的金属镓浸透到所述氮化镓烧结体中的工序包括：将所述氮化镓烧结体和所述金属镓在相同容器内进行真空处理，然后对所述容器施加等静压的工序。

12.一种金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，其包含以各自的相的形式存在的氮化镓相和金属镓相，Ga/(Ga＋N)的摩尔比为55%以上且80%以下。

13.根据权利要求12所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，所述成形物中包含的空隙的总体积的30%以上被所述金属镓填满。

14.根据权利要求12或13所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，其具有3.20g/cm³以上且低于6.05g/cm³的密度。

15.根据权利要求12～14中任一项所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，其具有1Ω·cm以下的电阻值。

16.根据权利要求12～15中任一项所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，其含有11atm%以下的氧量。

17.根据权利要求12～16中任一项所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，所述氮化镓相具有2.5g/cm³以上且低于5.0g/cm³的密度，且具有基于X射线衍射测定的氧化镓的(002)面的峰相对于氮化镓的(002)面的峰强度比低于3%的组成。

18.根据权利要求12～17中任一项所述的金属镓浸透氮化镓成形物，其特征在于，所述成形物中包含的空隙具有开气孔和闭气孔，所述开气孔相对于所述空隙的总体积的体积率为70%以上。

19.一种权利要求12～18中任一项所述的金属镓浸透氮化镓成形物的制造方法，其特征在于，其包括使液态的金属镓浸透到具有2.0g/cm³以上且低于5.0g/cm³的密度的氮化镓成形物中的工序。