[发明专利]光活性聚合物材料有效
申请号: | 201180061662.4 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103261272A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | H·塞伯勒 | 申请(专利权)人: | 罗利克有限公司 |
主分类号: | C08G73/00 | 分类号: | C08G73/00;G02F1/1337 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张钦 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活性 聚合物 材料 | ||
本发明涉及新型光活性聚合物材料,它们作为液晶取向层的用途,所述液晶被用于生产非结构化和结构化光学元件或光电元件和多层体系。
光学元件或光电元件例如用作安全器件,液晶器件(LCD),光学薄膜,例如延迟器,例如3D延迟器。在US6,107,427中描述的光反应性化合物可用作液晶的取向层。然而,对提供有效制造工艺,例如辊对辊法(roll-to roll-processes)的高级取向材料存在日益增加的需求,和所述材料可涂布在不同基底上,并提供液晶的良好取向。
因此,本发明的目的是提供新型光反应性聚合物,所述光反应性聚合物提供良好的取向,并提供有效的制造工艺。
本发明涉及含下式(I)的重复单元的聚合物材料:
其中
Ml是选自丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯,2-氯丙烯酸酯,2-苯基丙烯酸酯,丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,2-氯丙烯酰胺,2-苯基丙烯酰胺,N-低级烷基取代的丙烯酰胺,N-低级烷基取代的甲基丙烯酰胺,N-低级烷基取代的2-氯丙烯酰胺,N-低级烷基取代的2-苯基丙烯酰胺,乙烯醚,乙烯酯,苯乙烯,二胺,酰胺,酰亚胺,硅氧烷,酰胺酸酯,酰胺酸中的单体单元;
优选选自丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯,2-氯丙烯酸酯,2-苯基丙烯酸酯,丙烯酰胺,甲基丙烯酰胺,2-氯丙烯酰胺,2-苯基丙烯酰胺,N-低级烷基取代的丙烯酰胺,N-低级烷基取代的甲基丙烯酰胺,N-低级烷基取代的2-氯丙烯酰胺,N-低级烷基取代的2-苯基丙烯酰胺,乙烯醚,乙烯酯,苯乙烯,硅氧烷,二胺,酰胺,酰胺酸酯,酰胺酸中的单体单元;
更优选选自丙烯酸酯,甲基丙烯酸酯,2-氯丙烯酸酯,2-苯基丙烯酸酯,乙烯醚,乙烯酯,苯乙烯,硅氧烷中的单体单元;最优选丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,
环A是未取代的亚苯基,被氟、氯、氰基、烷基或烷氧基取代的亚苯基,吡啶-2,5-二基,嘧啶-2,5-二基,1,3-二烷-2,5-二基,环己烷-1,4-二基,哌啶-1,4-二基,或哌嗪-1,4-二基;优选亚苯基;
环B是未取代的亚苯基,被氟、氯、氰基、烷基或烷氧基取代的亚苯基,吡啶-2,5-二基,嘧啶-2,5-二基,1,4-亚萘基,2,6-亚萘基,1,3-二烷-2,5-二基,或环己烷-1,4-二基;优选亚苯基,
Y1,Y2各自独立地为共价单键,-(CH2)t-,-O-,-CO-,-CO-O-,-O-OC-,-NR4-,-CO-NR4-,-R4N-CO-,-(CH2)u-O-,-O-(CH2)u-,-CF2O-,-OCF2-,-(CH2)u-NR4-,或-NR4-(CH2)u-,其中
R4是氢或低级烷基;
t是1-4的整数;
u是1-3的整数;
m,n各自独立地为0或1;
环C是未取代的亚苯基,被氟、氯、氰基、烷基或烷氧基取代的亚苯基,嘧啶-2,5-二基,吡啶-2,5-二基,2,5-亚噻吩基,2,5-亚呋喃基,1,4-亚萘基,或2,6-亚萘基;
S1是间隔基单元,其中若m和n为0,则间隔基单元是S2,和若m或n中的至少一个为1,优选若m为1和n为0,则间隔基单元是S3;其中S2是C4-C24亚烷基,和S3是C9-C24亚烷基,优选C10-C24亚烷基,和其中亚烷基是未取代或取代的、直链或支链亚烷基,其中一个或多个-CH2-基可被至少一个连接基、脂环族和/或芳族基团取代,
Z是-O-或-NR5-,其中R5是氢或低级烷基,或化学式D的第二基团,其中
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