[发明专利]气闸和带有气闸的涂覆装置有效
申请号: | 201180062220.1 | 申请日: | 2011-10-20 |
公开(公告)号: | CN103370442A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 戴维·波卡扎;斯蒂芬·雷伯;马丁·阿诺德;诺伯特·希林格 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩霍弗应用技术研究院 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气闸 带有 装置 | ||
1.一种用于分离两个气室(G1、G2)的气闸(I),其包括:
a)至少一个流入体(K),所述流入体(K)具有至少一个用于气体的流入通道(H),所述流入通道(H)通入所述流入体(K)的第一侧中,
b)以与所述至少一个流入体(K)的该第一侧成间距的方式布置的壁(A),其中,在所述壁(A)和所述至少一个流入体(K)之间形成与所述流入通道(H)流连接的间隙(B),
c)至少两个用于气体的流出孔(i1、i2),其与所述间隙(B)流连接,
其特征在于,在所述限制所述至少一个流入体(K)的第一侧中和/或在所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧中存在至少一个用于在所述间隙(B)中产生涡流的器件。
2.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,限制所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧具有至少一个、优选地多个从所述流入体的第一侧出发的且伸入所述流入体中的或从所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧出发的且伸入所述壁(A)中的凹口(E)。
3.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,限制所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧具有至少一个、优选地多个从所述流入体的第一侧出发的且伸入所述间隙(B)中的或从所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧出发的且伸入所述间隙(B)中的突出部(F)。
4.根据前述两个权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,存在至少一个凹口(E)和至少一个突出部(F)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述气闸构造成相对于所述至少一个流入通道(H)镜像对称和/或相对于平行于所述气闸伸延的轴线旋转对称。
6.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,如此布置所述流出孔(i1、i2),即,所述第一流出孔(i1)的流出方向与所述第二流出孔的流出方向相反。
7.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述间隙(B)相对于所述至少一个流入通道(H)基本上垂直地伸延。
8.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,存在至少一个用于抽吸气体(AS)的方案。
9.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述至少一个流入体(K)具有至少两个用于气体的流入通道(H1、H2、…、Hn),并且所述间隙(B)与所述至少两个流入通道(H1、H2、…、Hn)流连接,其中,在所述流入通道(H1、H2、…、Hn)之间分别设置一个用于抽吸气体(AS)的方案。
10.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,在所述壁(A)的背离所述流入体(K)的侧上布置:
a)至少另一流入体(K'),或者
b)多个交替地布置的流入体(K'、K''、...、Kn)和板(A2、A3、...、An-1)。
11.一种涂覆装置或热处理装置,其包括至少一个根据前述权利要求中任一项所述的气闸。
12.一种根据权利要求1至11中任一项所述的气闸的应用,其用于保持一种和/或多种气体的已有的浓度梯度和/或用于保持在两个气室(G1、G2)之间不同气体的分离。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的