[发明专利]使用双释放层的功能纳米颗粒的纳米压印光刻形成

权利要求书

1.一种用于形成纳米颗粒的压印光刻方法，包括：

形成多层基底，所述多层基底包括基础层、结合于所述基础层的第一可移除层、结合于所述第一可移除层的一个或多个功能层；以及结合于所述功能层之一的第二可移除层，其中所述一个或多个功能层中的至少一个层包含功能材料；

在压印光刻工艺中在所述多层基底的表面上形成图案化层，所述图案化层包括多个凸起和凹陷；

在一个或多个蚀刻工艺中将所述图案化层的特征转移到所述多层基底中，以形成从所述基础层延伸的多个多层柱体；

用溶剂溶解所述第一和第二可移除层来将包含所述一个或多个功能层的柱体从所述基础层分离，所分离的柱体限定纳米颗粒。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述功能材料是制药复合物。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述功能材料是成像剂。

4.如权利要求1到3中任一项所述的方法，其特征在于，还包括在所述图案化层上形成硬掩模层，以及随后在一个或多个蚀刻工艺中在将所述图案化层的所述特征转移到所述多层基底中以形成从所述基础层延伸的多个多层柱体之前蚀刻掉所述硬掩模层的至少一部分。

5.如权利要求1到3中任一项所述的方法，其特征在于，还包括在所述第二可移除层上形成硬掩模层。

6.如权利要求1到5中任一项所述的方法，其特征在于，所述转移进一步基本上移除所述图案化层。

7.如权利要求1到6中任一项所述的方法，其特征在于，所述蚀刻工艺中的至少一个蚀刻工艺包括惰性气体蚀刻工艺。

8.如权利要求1到7中任一项所述的方法，其特征在于，还包括用第一溶剂溶解所述第二可移除层，其中所述第一溶剂选择性地溶解所述第二可移除层；以及

用第二溶剂溶解所述第一可移除层，其中所述第二溶剂选择性地溶解所述第一可移除层以将所述柱体与所述基础层分离。

9.如权利要求1到8中任一项所述的方法，其特征在于，还包括在溶解所述第一可移除层之前处理所述多层柱体的表面。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述表面处理还包括涂覆所述多层基底的所述表面。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述表面处理还包括修改所述多层基底的所述表面。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述修改时从由以下各项组成的组中选择的：将配位体或其他功能分子耦合到所述表面，修改表面电荷，以及修改所述表面的疏水性或亲水性。

13.一种根据权利要求1到12中任一项形成的纳米颗粒。

14.一种通过压印光刻工艺形成的颗粒，所述颗粒包括：

至少第一层和第二层，所述第二层粘合于所述第一层；以及

其中所述第一层和第二层中的至少一个层包括制药复合物或成像剂，并且所述颗粒的尺寸为约100nm或更小。

15.如权利要求14所述的颗粒，其特征在于，所述第一和第二层之间的界面是基本平坦的。

16.如权利要求14或15所述的颗粒，其特征在于，还包括粘合于所述第二层的第三层，其中所述第二层和第三层之间的界面是基本平坦的且所述第二层包括制药复合物且其中所述第一层和所述第三层均不包括制药复合物。