[发明专利]同时寻找和测定复杂样品中的多种分析物的方法及系统无效
申请号: | 201180062637.8 | 申请日: | 2011-10-25 |
公开(公告)号: | CN103370615A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | B·D·莱特内尔;E·洛;C·巴内斯;M·J·斯泰恩 | 申请(专利权)人: | 华盛顿大学商业中心 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;G01N1/28;H01J49/26 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 张琤 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 同时 寻找 测定 复杂 样品 中的 多种 分析 方法 系统 | ||
要求排他性的所有权或特权的本发明的实施方案被限定如下:
1.用于检测样品材料中的分析物的方法,其包括:
(a)通过样品材料的常压解吸电离产生分析物颗粒;
(b)用质量分析仪对分析物颗粒进行分析,以提供来自混合样品的分析物颗粒的质谱;以及
(c)通过对所述质谱的多变量统计学分析来确定样品材料中分析物的存在。
2.权利要求1的方法,其中通过常压解吸电离产生分析物颗粒包括使所述样品材料与等离子体接触。
3.权利要求2的方法,其中所述等离子体是低温等离子体。
4.权利要求1的方法,其中通过常压解吸电离产生分析物颗粒包括使所述样品材料与下述接触:电喷雾解吸电离源,纸喷雾电离源,超声喷雾解吸电离源,大气压解吸光电离源,实时直接分析源,常压固体分析探针源,解吸常压化学电离源,电介质阻挡放电电离源,等离子体辅助解吸/电离源,中性解吸采样电喷雾萃取电离源,电喷雾辅助激光解吸电离源,激光消融电喷雾电离源,基质辅助激光解吸电喷雾电离源,或红外激光辅助解吸电喷雾电离源。
5.权利要求1的方法,其中所述分析物颗粒是正离子。
6.权利要求1的方法,其中所述分析物颗粒是负离子。
7.权利要求1的方法,其中所述质量分析仪是常压质量分析仪。
8.权利要求1的方法,其中所述质量分析仪是质谱仪。
9.权利要求1的方法,其中所述质量分析仪是离子迁移谱仪。
10.权利要求1的方法,其中所述质量分析仪是离子阱质谱仪,四极质谱仪或离子回旋共振质谱仪。
11.权利要求1的方法,其中所述多变量统计学分析包括主成分分析。
12.权利要求1的方法,其中所述多变量统计学分析包括偏最小二乘回归分析。
13.权利要求1的方法,其中所述样品材料是固体。
14.权利要求1的方法,其中所述样品材料是液体。
15.权利要求1的方法,其中所述样品材料是表面涂层。
16.权利要求1的方法,其中所述样品材料是塑料,聚合物,织物,纺织品,金属,陶瓷,或它们的混合物。
17.权利要求1的方法,其中所述样品材料是水性的。
18.权利要求1的方法,其中所述样品材料是全血,血浆,唾液,粘液,尿液,皮肤,毛发,组织,或它们的混合物。
19.权利要求1的方法,其中所述样品材料是食物或饮料。
20.权利要求1的方法,其中所述样品材料是化学试剂。
21.权利要求1的方法,其中所述样品材料是药剂。
22.权利要求1的方法,其中所述样品材料是爆炸物。
23.用于检测样品材料中的分析物的系统,其包括:
(a)用于产生分析物颗粒的常压解吸电离源;
(b)用于对分析物颗粒进行分析以提供所述颗粒的质谱的质量分析仪;以及
(c)用于分析所述质谱以确定所述样品材料中分析物的存在的多变量统计学分析程序。
24.权利要求23的系统,其中所述常压解吸电离源是等离子体。
25.权利要求23的系统,其中所述常压解吸电离源是低温等离子体。
26.权利要求23的系统,其中所述常压解吸电离源是电喷雾解吸电离源,纸喷雾电离源,超声喷雾解吸电离源,大气压解吸光电离源,实时直接分析源,常压固体分析探针源,解吸常压化学电离源,电介质阻挡放电电离源,等离子体辅助解吸/电离源,低温等离子体源,中性解吸采样电喷雾萃取电离源,电喷雾辅助激光解吸电离源,激光消融电喷雾电离源,基质辅助激光解吸电喷雾电离源,或红外激光辅助解吸电喷雾电离源。
27.权利要求23的系统,其中所述质量分析仪是常压质量分析仪。
28.权利要求23的系统,其中所述质量分析仪是质谱仪。
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