[发明专利]光反射基板无效

专利信息
申请号: 201180062875.9 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN103270199A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 堀田吉则;畠中优介 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C25D11/16 分类号: C25D11/16;G02B5/08;H01L33/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 金仙华
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 反射
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种光反射基板,具体来说,涉及一种用于发光二极管(以下称作“LED”。)中的光反射基板。

背景技术

一般来说,LED与荧光灯相比,被认为电力使用量为1/100,寿命为40倍(40000小时)。此种节电并且长寿命的特征在重视环境的潮流中是LED得到采用的重要的因素。

特别是白色LED由于还具有彩色再现性优异、与荧光灯相比电源电路简便的优点,因此作为照明用光源的期待正在提高。

近年来,作为照明用光源所要求的发光效率高的白色LED(30~150Lm/W)陆续登场,在实际应用时的光的利用效率的方面,逆转战胜了荧光灯(20~110Lm/W)。

由此,取代了荧光灯,白色LED的实用化的潮流一路高涨,作为液晶显示装置的背光灯、照明用光源采用白色LED的情形也在不断增多。

出于提高此种LED的发光输出的目的,提出了使用具备铝的金属基板和其上的阳极氧化皮膜的光反射基板的方案(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本特开2007-251176号公报

发明内容

发明的概要

发明所要解决的问题

近年来,LED元件的使用范围拓展到室内外的照明、汽车头灯、显示器装置的背光灯组件等各种领域,从可靠性、设计性等观点考虑,均匀地放射光变得更加重要。

另一方面,本发明人等参照专利文献1,对具备铝的金属基板和其上的阳极氧化皮膜的光反射基板进行了研究,结果弄清,存在有由光的入射方向造成的反射率的各向异性的情况。更具体来说,发现在测定反射率时,在某个方向测定的反射率和在与该方向正交的方向测定的反射率不同。一旦存在此种各向异性,就会因在光反射基板上配置发光元件的朝向,而使所得的发光组件的发光效率不同,因此有可能在发光组件的批次间产生性能的波动。

此外,就以往的光反射基板而言,未必能说反射率本身充分地满足近年来所要求的水平。

所以,本发明鉴于上述实情,目的在于,提供显示出高反射率、并且可以获得反射率的各向异性小、各向同性优异的发光的光反射基板、以及使用了它的发光元件。

用于解决问题的方法

本发明人为了达成上述目的进行了深入研究,结果发现,通过将阳极氧化皮膜上的表面粗糙度Ra设为给定的范围,就可以抑制全反射率的各向异性,从而完成了本发明。

即,本发明提供以下的(1)~(6)。

(1)一种光反射基板,是具备铝基板、和其上的铝的阳极氧化皮膜的光反射基板,

所述阳极氧化皮膜表面的第一方向的表面粗糙度Ra1、和与所述第一方向正交的第二方向的表面粗糙度Ra2的比(其中,以Ra1及Ra2中的更大的值的一方作为分母,以值小的一方作为分子。而且,在Ra1及Ra2为相同值的情况下,无论哪一个为分母都可以。)为0.4~1.0,Ra1及Ra2分别为0.1~0.4μm。

(2)根据(1)所述的光反射基板,其中,所述阳极氧化皮膜表面的剖面曲线的平均长度Psm为50μm以上。

(3)根据(1)或(2)所述的光反射基板,其中,相对于所述阳极氧化皮膜中的微孔的深度,所述微孔的中心线的长度(长度/深度)为1.0~1.2。

(4)根据(1)~(3)中任一项所述的光反射基板,通过对铝基板作为粗面化处理仅进行电化学粗面化处理后,以15g/m2以上的蚀刻量进行蚀刻处理,再实施阳极氧化处理而得到。

(5)根据(4)所述的光反射基板,其中,所述铝基板的铝纯度为99.95质量%以上。

(6)一种白色系LED发光元件,在(1)~(5)中任一项所述的光反射基板上具有蓝色发光元件,在其周围和/或上部具备荧光发光体。

发明效果

根据本发明,可以提供显示出高反射率、并且可以获得反射率的各向异性小、各向同性优异的发光的光反射基板、以及使用了它的发光元件。

附图说明

图1是本发明的光反射基板的制造的一例的阳极氧化处理中所用的阳极氧化处理装置的示意图。

图2是表示本发明的光反射基板的制造的一例的电化学粗面化处理中所用的交变波形电流波形图的一例的曲线图。

图3是表示本发明的光反射基板的制造的一例的使用了交流的电化学粗面化处理中所用的径向型单元(cell)的一例的示意图。

图4是表示本发明的白色系LED发光元件的一个构成例的示意性剖面图。

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