[发明专利]液滴喷射装置中的流体再循环

权利要求书

1.一种喷射流体液滴的设备，包括：

流体歧管，包括流体供应室和流体返回室；

基底，包括流动路径，所述流动路径包括用于接收流体的喷嘴入口、用于喷射流体液滴的喷嘴和用于使未喷射的流体离开的喷嘴出口；以及

流体分布层，在所述流体歧管和所述基底之间，所述流体分布层包括流体供应通道，所述流体供应通道具有流体地连接至所述流体供应室的供应入口和流体地连接至所述流体返回室的返回侧旁路，并且所述流体供应通道流体地连接至基底中的所述流动路径的所述喷嘴入口。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：

在流体分布层中，所述供应入口被构造为接收来自所述流体供应室流体，并且所述返回侧旁路被构造为使通过所述供应入口接收的流体的一部分循环返回到所述流体返回室。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述流体供应通道的所述返回侧旁路是在所述流体供应通道和所述流体返回室之间的分界处中的孔。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述返回侧旁路的尺寸小于所述供应入口的尺寸。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述返回侧旁路的流阻是所述供应入口的流阻的10倍以上。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：

所述流体分布层还包括流体返回通道，所述流体返回通道具有流体地连接至所述流体返回室的返回出口和流体地连接至所述流体供应室的供应侧旁路，并且所述流体供应通道流体地连接至所述基底中的流动路径的所述喷嘴出口。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于：

在流体分布层中，所述流体供应通道的所述返回侧旁路是流体地连接流体分布层中的所述流体供应通道和所述流体返回通道的间隙，所述间隙被构造为使进入流体供应通道的所述流体的一部分进入流体返回通道。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于：

间隙的流阻是供应入口的流阻的十倍以上。

9.根据权利要求6所述的设备，其特征在于：

所述返回出口被构造为将在所述流体返回通道中收集的未喷射的流体返回所述流体返回室，并通过所述返回出口返回到所述流体返回室的流体的一部分通过流体返回通道的供应侧旁路进入流体返回通道。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于：

流体返回通道的供应侧旁路是流体地连接流体分布层中的流体供应通道和流体返回通道的间隙，所述间隙被构造为从用于通过返回出口返回到流体返回室的流体的一部分的流体供应通道接收流体。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于：

间隙的流阻是返回出口的流阻的十倍以上。

12.一种用于喷射流体液滴的设备，包括：

流体分布层，包括多个流体供应通道，每个流体供应通道被构造为通过流体地连接流体供应通道和流体供应室的对应的供应入口从流体供应室接收流体，流体供应通道进一步被构造为使接收的流体的一部分通过流体地连接流体供应通道和流体返回室的对应的返回侧旁路、存在于流体分布层中的每个流体供应通道的返回侧旁路和对应的供应入口循环到流体返回室；以及

基底，包括多个流动路径，每个流动路径包括对应的喷嘴入口、用于喷射流体液滴的对应的喷嘴和对应的喷嘴出口，每个流动路径通过流动路径的对应的喷嘴入口流体地连接至流体分布层中的对应的流体供应通道，并且所述流动路径被构造为通过对应的喷嘴入口接收对应的流体供应通道中的至少一些流体，并且使接收的流体通过通道流至流动路径的对应的喷嘴出口。

13.根据权利要求11所述的设备，其特征在于：

流体分布层还包括多个流体返回通道，每个流体返回通道被构造为使流体通过流体地连接流体返回通道和流体返回室的对应的返回出口返回至流体返回室，通过流体地连接流体返回通道和流体供应室的供应侧旁路接收返回到流体返回室的流体的一部分，以及

基底中的每个流动路径通过流动路径的对应的喷嘴出口流体地连接至流体分布层中的对应的返回通道。

14.根据权利要求13所述的设备，其特征在于：

所述基底包括在第一侧上的平面状喷嘴层，并且流体分布层布置在基底的与第一侧相对的第二侧上。