[发明专利]凸缘构件、感光鼓、处理盒、成像装置及成像方法有效

专利信息
申请号: 201180064574.X 申请日: 2011-11-10
公开(公告)号: CN103299244A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 久保大辅;矢野启一;中村晃;新井阳子 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03G21/00 分类号: G03G21/00;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张祥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 凸缘 构件 感光 处理 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种凸缘构件,包括:

压配合部,所述压配合部构造为在中空且柱形的套筒构件的沿套筒构件轴向的端部处压配合于端部开口部中;

轴开口部,所述轴开口部包括轴开口,当所述压配合部压配合于所述端部开口部中时在对应于所述套筒构件的中心轴线的位置处将轴构件插入所述轴开口中;以及

联接部,当压配合所述凸缘构件时,所述联接部在与所述套筒构件的圆形横截面平行的方向上延伸,所述联接部将所述轴开口部连接至所述压配合部,

其中,所述联接部包括应力吸收部,所述应力吸收部构造为变形,从而当所述压配合部压配合于所述端部开口部中时在与所述套筒构件的内周面接触时吸收所述压配合部的外周面所承受的应力,从而防止经由所述联接部将应力传递至所述轴开口部。

2.根据权利要求1所述的凸缘构件,其中,所述应力吸收部中的至少一个布置在从假想投影圆的圆周绘制到所述轴开口部的任意假想线上,所述假想投影圆是所述压配合部的外周面在假想平面上的投影,所述假想平面垂直于轴向并包括所述联接部。

3.根据权利要求1所述的凸缘构件,其中,所述应力吸收部包括在轴向上穿过所述联接部的开口。

4.根据权利要求3所述的凸缘构件,其中,所述开口填充有弹性材料,所述弹性材料相比于所述联接部的材料可更易于变形。

5.根据权利要求1所述的凸缘构件,其中,所述应力吸收部包括凹部,相比于所述联接部在凹部周围的部分的厚度,所述凹部具有更小的厚度。

6.根据权利要求2所述的凸缘构件,其中,位于所述应力吸收部和应力吸收部的周围部分之间的边界包括大致直的侧边,所述大致直的侧边垂直交于所述假想投影圆的半径。

7.根据权利要求2所述的凸缘构件,其中,所述应力吸收部包括大致直的侧边,当所述凸缘构件压配合于所述套筒构件中时,所述大致直的侧边垂直交于在圆形横截面的径向方向上延伸的假想线。

8.根据权利要求2所述的凸缘构件,其中,当所述凸缘构件压配合于所述套筒构件中时,所述应力吸收部布置于在圆形横截面的径向方向上离所述轴开口的中心位置距离相同的圆周上的数量是2个或2个以上且180个或180个以下。

9.根据权利要求2所述的凸缘构件,其中,所述应力吸收部交于一假想线的数量是2个或2个以上且33个或33个以下,从所述轴开口的中心位置向所述假想投影圆的圆周绘制所述假想线。

10.根据权利要求1所述的凸缘构件,其中,当所述凸缘构件压配合于所述套筒构件中时,在沿圆形横截面的径向方向离所述轴开口的中心位置距离相同的圆周上彼此相邻的应力吸收部之间的间隔是1mm或1mm以上且280mm或280mm以下。

11.根据权利要求1所述的凸缘构件,其中,彼此相邻地交于一假想线的应力吸收部的间隔是1mm或1mm以上且130mm或130mm以下,从所述轴开口的中心位置向假想投影圆的圆周绘制所述假想线。

12.一种感光鼓,包括:

中空且柱形的套筒构件,在所述套筒构件的外周面上具有感光层;以及

根据权利要求1所述的凸缘构件,所述凸缘构件在所述套筒构件的轴向上在所述套筒构件的端部处压配合于端部开口部中。

13.一种可以附接至或脱离成像装置主体的处理盒,所述处理盒包括:

感光体;

充电单元,所述充电单元构造为使所述感光体带电;

潜像形成单元,所述潜像形成单元构造成将静电潜像形成于通过所述充电单元而带电的所述感光体的表面上;

显影单元,所述显影单元构造为将色调剂附着到由所述潜像形成单元所形成的静电潜像上;

转印单元,所述转印单元构造为将由所述显影单元形成的色调剂图像转印到转印体上;

清洁单元,所述清洁单元构造为在将所述色调剂图像转印到所述转印体上之后从所述感光体的表面除去色调剂,

其中,所述感光体包括根据权利要求12所述的感光鼓。

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