[发明专利]等离子体发生器及等离子体产生方法在审
申请号: | 201180064583.9 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN103492064A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 宫本诚;竹之下一利;熊谷悠纪;中山阳子;野岛秀雄 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;A61L9/22;H05H1/24 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;戴嵩玮 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 发生器 产生 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种等离子体发生器及一种等离子体产生方法。
背景技术
近来,由于感染风险的增加,例如所见的特异性、哮喘和过敏症状的携带者的增加以及新型流感的流行爆发,对例如杀菌和除臭的控制生活环境的空气质量的需求不断增加。此外,随着生活变得富裕,增加了食物的贮藏量及贮藏剩余食物的机会。因此,在以冷藏库为代表的贮藏设备中环境控制的重要性也在增加。
在以控制生活环境的空气质量为目的的现有技术中,一般使用以过滤器为代表的物理控制。通过物理控制可以俘获空气中漂浮的相对大的灰尘和碎屑,并且根据滤孔的尺寸还可以俘获细菌、病毒或类似物。此外,当具有无数诸如活性炭之类的吸附点时,也可以俘获恶臭分子。然而存在以下问题:为了俘获空间中要被控制的空气要求其均匀通过过滤器,增大了装置的尺寸并且还增加了例如过滤器更换的维护费用,但是对附着物质还是无效的。因此,作为能够对附着物质进行杀菌和除臭的手段,可以是例如向希望进行杀菌除臭的空间释放化学活性物种。在喷洒化学品或释放芳香剂或除臭剂的情况下,需要提前准备活性物种且对其定期补给是必不可少的。另一方面,使用通过在大气中产生等离子体所产生的化学活性物种进行杀菌和除臭的手段在近年来不断增加。
通过等离子体的放电在大气中所产生的离子和自由基(以下称为“活性物种”)进行杀菌和除臭的技术可以被分为以下两种。
(1)一种是被称为被动型等离子体发生器,其中在大气中浮游的细菌和病毒(以下称为“浮游菌”)或恶臭物质(以下称为“臭味”)与活性物种在装置中的有限的容积内反应(例如专利文献1)。
(2)一种是被称为主动型等离子体发生器,其中通过等离子体产生部产生的活性物种被释放到具有比(1)的容积大的容积的密闭空间(例如,起居室、卫生间或车内等)中,且大气中的活性物种通过碰撞与浮游菌和臭味反应(例如专利文献2)。
(1)的被动型等离子体发生器优点在于,由于通过在小容积内产生的等离子体所产生的活性物种浓度高,因此可以期待高效的杀菌和除臭效果。另一方面,该装置的缺点在于,由于浮游菌和臭味需要被引入该装置中,因此其尺寸增加;并且由于在等离子体产生过程中很可能产生作为副产物的臭氧,所以为了阻止臭氧泄露至装置外需要单独安装用于吸附或分解的过滤器。
接着,(2)的主动型等离子体发生器优点在于,该装置可以相对较小,并且除了杀灭空气中的浮游菌以及分解空气中的臭味之外,还可以期待杀灭附着于衣物表面的细菌(以下称为“附着菌”)且分解被吸附在表面上的臭味。另一方面,该装置的缺点在于,由于活性物种扩散到相对于该装置的体积非常大的密闭空间中而且活性物种的浓度低,因此只能够期待寿命长的活性物种的杀菌和除臭的效果。结果,在具有高臭味浓度(是活性物种浓度10000倍的高浓度)的空间内,除臭效果可能无法接近预期。
通过上文,在被动型等离子体发生器中,效果受限于仅针对包含在流入该装置的空气流中的浮游菌和臭味。另一方面,在主动型等离子体发生器中,仅能期待针对低浓度的浮游菌、附着菌、以及臭味的效果。换言之,通过利用现有技术仅可以实现“对浮游菌的杀菌和除臭”或“对具有低浓度的浮游菌和附着菌的杀菌以及对附着臭味的除臭”。
然而,在日常的生活环境中有一些要求同时执行对高浓度的附着菌杀菌以及对高浓度臭味的去除的情况。最典型的示例就是冷藏库的冷冻室,在冷藏库的冷冻室中,存在大量附着在食物表面和贮藏容器表面的细菌,还存在由食物本身及腐烂的剩饭产生的臭味。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-224211号公报
专利文献2:日本特开2003-79714号公报
发明内容
技术问题
因此,本发明是一种同时实现对附着菌的杀灭和除臭的技术,且本发明的主要目的在于增加活性物种的产生量,从而同时包括通过等离子体的产生使用活性物种对附着菌除臭的被动功能以及将活性物种释放到装置外部以杀灭附着菌的主动功能。
技术方案
根据本发明的一方面,一种等离子体发生器包括一对电极,在电极之间施加预定电压以使等离子体放电,流体流通孔分别设置在每个电极的对应位置处并且穿过电极,当从电极的面板方向观看时,每个对应流体流通孔的轮廓的至少一部分布置在相互不同的位置处。这里,对应位置是指当从每个电极的面板方向观看时,在这对电极中形成的流体流通孔在基本相同的位置并且彼此面对。另外,对应位置是指在正交坐标系中,当从z轴方向观看x-y平面上的这对电极时,这两个电极处的基本相同的坐标位置(x,y)。
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