[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201180065147.3 | 申请日: | 2011-03-15 |
公开(公告)号: | CN103314134A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 织田容征;白幡孝洋;吉田章男 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C18/02 | 分类号: | C23C18/02;B05B1/04;C23C16/455 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种成膜装置,其特征在于,
所述成膜装置具备:
薄雾产生器(2),其用于产生成为成膜的原料的薄雾;及
薄雾喷射用喷嘴(1),其将由所述薄雾产生器产生的所述薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射,
所述薄雾喷射用喷嘴具备:
主体部(1A),其具有空心部(1H);
薄雾供给口(5a),其形成于所述主体部,并将由所述薄雾产生器产生的所述薄雾供给到所述空心部内;
第一喷射口(8),其形成于所述主体部,并将所述空心部的所述薄雾向外部喷射;
至少一个以上的载气供给口(6a),其形成于所述主体部,并将向所述第一喷射口运送所述薄雾的载气供给到所述空心部内;
淋浴板(7),其配置在所述空心部内,且形成有多个孔(7a),
通过所述淋浴板的配置,所述空心部被分割成与所述载气供给口连接的第一空间(1S)及与所述第一喷射口连接的第二空间(1T),
所述薄雾供给口以与所述第二空间连接的方式形成于所述主体部。
2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
形成于所述淋浴板的所述多个孔的开口面积的总和小于所述载气供给口的开口面积的总和。
3.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
在所述薄雾供给口连接有将由所述薄雾产生器产生的所述薄雾向所述空心部内运送的薄雾配管(5)。
4.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
在所述主体部以堵塞所述薄雾供给口的方式直接地连接有所述薄雾产生器。
5.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述薄雾喷射用喷嘴还具备至少形成在所述第一喷射口周边的所述主体部且能够对所述空心部的温度进行调整的温度调整部(9)。
6.根据权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,
所述温度调整部配置在所述薄雾气体喷射用喷嘴的所述主体部的整体范围内。
7.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述成膜装置还具备反应促进气体喷射用喷嘴(10),该反应促进气体喷射用喷嘴(10)具有用于喷射对所述薄雾的分解反应进行促进的反应促进气体的第二喷射口(13),
所述第一喷射口与所述第二喷射口相邻。
8.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述成膜装置还具备排气喷嘴(14),该排气喷嘴(14)具有排气口(16)。
9.根据权利要求8所述的成膜装置,其特征在于,
所述成膜装置还具备反应促进气体喷射用喷嘴(10),该反应促进气体喷射用喷嘴(10)具有用于喷射对所述薄雾的分解反应进行促进的反应促进气体的第二喷射口(13),
以所述排气口为起点而在一方向上使所述排气口、所述第一喷射口、所述第二喷射口相邻。
10.根据权利要求8所述的成膜装置,其特征在于,
所述排气喷嘴的排气力与所述薄雾喷射用喷嘴的喷射力相同。
11.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,
所述薄雾喷射用喷嘴为两个以上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理