[发明专利]为隐形眼镜消毒的设备和方法

权利要求书

1.一种为隐形眼镜消毒的方法，该方法包括：

提供腔，该腔构造为容纳水基液体和容纳至少一副隐形眼镜，并构造成为电解池供电；

在腔内提供水；

提供电解池，使其至少部分地浸入到水中；以及

促使电解池从至少一部分水中产生臭氧，臭氧溶解于水中。

2.根据权利要求1所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，提供电解池包括提供这样的电解池，其包括第一金刚石电极和第二电极，以及将第一金刚石电极和第二电极分隔开的薄膜。

3.根据权利要求2所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，促使电解池从至少一部分水中产生臭氧包括在第一金刚石电极和第二电极之间施加恒定的电流。

4.根据权利要求3所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，电流大约是150至300毫安之间，电极之间的电势大约是7至9伏特之间。

5.根据权利要求1所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，提供电解池包括提供这样的电解池，其包括第一金刚石电极和第二金刚石电极，以及将第一金刚石电极和第二金刚石电极分隔开的薄膜。

6.根据权利要求5所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，促使电解池从至少一部分水中产生臭氧包括在第一金刚石电极和第二金刚石电极之间施加恒定的电流。

7.根据权利要求6所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，电流大约是50至300毫安之间，电极之间的电势大约是7至9伏特之间。

8.根据权利要求6所述的为隐形眼镜消毒的方法，其特征在于，在第一金刚石电极和第二金刚石电极之间施加恒定的电流还包括周期性地反转电流的方向。

9.根据权利要求1所述的为隐形眼镜消毒的方法，该方法还包括将隐形眼镜放置在腔中。

10.一种通过在消毒腔内的水中产生臭氧为隐形眼镜消毒的系统，该系统包括：

腔，该腔构造为容纳水基液体和至少一副隐形眼镜；

电解池，该电解池位于腔内，并且构造为浸入水基液体中，其中电解池包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极中的至少一个包括金刚石，该电解池构造为从水基液体中产生臭氧；以及

多个腔电源端子，其位于腔内并与电解池连接，

其中，在腔的体积和电解池的臭氧产量之间的关系是这样的，即电解池能够在水基液体中产生至少百万分之0.5的臭氧浓度。

11.根据权利要求10所述的为隐形眼镜消毒的系统，其特征在于，第一电极和第二电极中的至少一个包括独立的金刚石。

12.根据权利要求10所述的为隐形眼镜消毒的系统，其特征在于，第一电极和第二电极中的至少一个包括指状金刚石。

13.根据权利要求11所述的为隐形眼镜消毒的系统，其特征在于，电解池包括第一金刚石电极和第二金刚石电极。

14.根据权利要求13所述的为隐形眼镜消毒的系统，其特征在于，第一金刚石电极包括第一指状金刚石，第二金刚石电极包括第二指状金刚石。

15.根据权利要求10所述的为隐形眼镜消毒的系统，该系统还包括与多个腔电源端子连接的电源，所述电源构造为通过多个腔电源端子向电解池供电。

16.根据权利要求15所述的为隐形眼镜消毒的系统，其中电源构造为将恒定的电流提供给电解池。

17.根据权利要求16所述的为隐形眼镜消毒的系统，其中恒定的电流为50至300毫安之间。

18.根据权利要求10所述的为隐形眼镜消毒的系统，该系统还包括基体，该基体构造为接纳腔，基体具有多个基体电源端子，该基体电源端子构造为与腔电源端子电连接，并且包括控制回路，该控制回路构造为向基体电源端子供电。

19.一种制造金刚石的方法，该方法包括：

提供金刚石坯料，该坯料具有多个面；

去除金刚石坯料的至少一部分，以使金刚石坯料剩余的部分包括多个指状部。