[发明专利]包含镧系金属的聚杂硅氧烷组合物无效
申请号: | 201180066986.7 | 申请日: | 2011-12-22 |
公开(公告)号: | CN103354823A | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 大卫·德沙泽尔;马丁·格拉斯曼;刘立志;刘南国;E·麦克奎斯顿;S·K·米利;R·施密特 | 申请(专利权)人: | 道康宁公司 |
主分类号: | C08G77/58 | 分类号: | C08G77/58 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 武晶晶;郑霞 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 金属 聚杂硅氧烷 组合 | ||
1.一种聚杂硅氧烷组合物,其包含:
(A)第一金属(M1)、
(B)第二金属(M2)、
(C)具有式(R13SiO1/2)、(R12SiO2/2)、(R1SiO3/2)和/或(SiO4/2)的甲硅烷氧基单元
其中R1独立地为包含1至30个碳原子的烃基或卤代烃基,
其中,(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R13SiO1/2]m[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t[SiO4/2]q表示,
其中,a为0.001至0.9,b为0.001至0.9,m为0至0.9,d为0至0.9,t为0至0.9,以及q为0至0.9,
其中,m、d、t和q不能都为0,并且a+b+m+d+t+q的和≈1,并且
其中(M1)和(M2)中的至少一者为镧系金属,
其中所述组合物具有至少0.05%的量子产率。
2.根据权利要求1所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)和(M2)中的一者为非镧系金属,(M1)和(M2)中的另一者为镧系金属。
3.根据权利要求2所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t表示,其中(M1)为非镧系金属以及a为0.1至0.9,其中(M2)为镧系金属以及b为0.001至0.5,并且其中d和t中的每一个独立地为0.1至0.9。
4.根据前述权利要求中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)选自Ti、Zr、Al、Ge、Ta、Nb、Sn、Hf、In、Sb、Fe、V、Sb、W、Te、Mo、Ga、Cu、Cr、Mg、Ca、Ba、Sr、Y和Sc。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)选自Ti、Zr或Al。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)为Ti。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)为Ti,(M2)包含Eu和Zn。
8.根据权利要求1所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)和(M2)均为各自独立选择的镧系金属。
9.根据权利要求8所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(A)、(B)和(C)相对于彼此的摩尔分数由式[(M1)]a[(M2)]b[R12SiO2/2]d[R1SiO3/2]t表示,其中a和b各自独立地为0.001至0.5,并且其中d和t中的每一个独立地为0.1至0.9。
10.根据权利要求9所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)和(M2)各自独立地选自Gd、Tb、Dy、Ho、Tm和Lu。
11.根据权利要求9所述的聚杂硅氧烷组合物,其中(M1)和(M2)各自独立地选自Eu、Yb、Er、Nd、Dy、Sm或Tb。
12.根据前述权利要求中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其具有至少10%的量子产率。
13.根据前述权利要求中任一项所述的聚杂硅氧烷组合物,其具有至少60%的量子产率。
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