[发明专利]多元光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 201180067364.6 | 申请日： | 2011-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN103354915A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·T·佩尔蒂埃;克里斯托弗·迈克尔·琼斯 | 申请（专利权）人： | 哈利伯顿能源服务公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 章侃铱;张浴月 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多元 光学 元件 制造 方法 | ||
1.一种光学元件的制造方法，包括：
选择灯光谱和带通滤波光谱；
获得光谱特性向量，以量化样本中的组分的浓度；
从所述灯光谱、所述带通滤波光谱以及所述光谱特性向量获得目标光谱；
将待形成在所述光学元件的基板上的层数选择为小于最大层数；
使用多个层的每一个的折射率和厚度执行优化历程，直到模型光谱与目标光谱之间的误差小于公差值，或者直到超过迭代的次数。
如果所述误差小于所述公差，则减少所述层数；以及
如果超过所述迭代的次数，则停止进程以改变所述公差值。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学元件是多元光学元件(MOE)。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，为多个光学元件的每一个相对于单个光学元件来减少所述最大层数。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述多个光学元件包括MOE。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述多个光学元件包括吸收元件。
6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述多个光学元件包括全息元件。
7.根据权利要求3所述的方法，其中，所述多个光学元件包括光纤。
8.根据权利要求3所述的方法，其中，所述多个光学元件为时间多路复用的。
9.一种使用用于基于光学应用的多个光学元件的装置，包括：
光学元件，具有形成在基板上的多个薄膜层；其中：
薄膜层的数量小于最大层数，所述最大层数是根据第一公差选择的。
通过包括以下步骤的优化历程来获得薄膜层的数量：如果模型光谱与目标光谱之间的误差小于第二公差则减少层数。
10.根据权利要求9所述的装置，其中，所述多个光学元件包括MOE。
11.根据权利要求9所述的装置，其中，所述多个光学元件包括吸收元件。
12.根据权利要求9所述的装置，其中，所述多个光学元件包括全息元件。
13.根据权利要求9所述的装置，其中，所述多个光学元件包括光纤。
14.根据权利要求9所述的装置，其中，所述多个光学元件为时间多路复用的。
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