[发明专利]耐腐蚀性评估仪无效
申请号: | 201180068137.5 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103518128A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | S.H.张;L.F.佩洛斯;R.C.纳哈斯 | 申请(专利权)人: | 涂层国外知识产权有限公司 |
主分类号: | G01N17/02 | 分类号: | G01N17/02;G01N27/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 邹雪梅;李炳爱 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 腐蚀性 评估 | ||
技术领域
本发明涉及适于评估多层涂覆和单层涂覆的金属基底的耐腐蚀性的耐腐蚀性评估仪,并且更具体地涉及在加速比率下评估多层涂覆和单层涂覆的金属基底耐腐蚀性的耐腐蚀性评估仪以及在其中使用的方法。
背景技术
目前,不存在短期(小于2天)的测试方法来评估由来自涂料组合物的保护性涂层提供的长期防腐蚀,例如施用于金属基底例如机动车车身之上的机动车OEM或机动车修补涂料组合物。目前的标准测试方法主要依赖于环境舱暴露,随后是对具有保护性涂层的金属进行目视和机械测试。这种测试时间长(至多40天或更长暴露时间),具有主观性,高度依赖于暴露几何形状,并且依赖于进行评估的人员。因此,这些方法不易再现。耐腐蚀性数据为定性的,因此可接受的涂层的相对性能不能被容易确定。任何新的测试方法必须和传统的、可接受的标准环境舱测试方法关联良好,必须可再现,并且必须提供未知的直接金属(DTM)的耐腐蚀涂层的定性和定量的评级。
已经报告了实验性的减少测试时间的腐蚀测试方法。这些方法主要利用电化学阻抗谱(EIS)或交流阻抗技术。由于这些基于交流阻抗的方法通常仅提供对检测暴露时间的早期阶段的腐蚀更敏感的工具,腐蚀过程本身并未被这些方法加速。因此,这些方法在取得有意义的数据之前仍然需要相对长的暴露时间。获得有意义腐蚀数据所需的时间长度接近于标准方法的时间长度。更重要地,通过这些方法获得的耐腐蚀性数据,尤其是在初始暴露时间,主要由涂层的本征缺陷来指明。一般在涂覆样品制备之前产生的这些本征缺陷不一定与涂层的实际性能相关。如果数据没有被正确分析,可能得到误导性的信息。因此,标准的常规方法仍然受青睐。因此,仍存在对以下装置和方法的需要,所述装置和方法不仅加速保护性涂覆的金属基底的腐蚀,而且模拟通常在工作环境中可见的腐蚀,例如机动车车身使用期间经历的那些。
发明内容
本发明涉及耐腐蚀性评估仪,其包括:
(i)在其中保持电解质的腔室;
(ii)位于所述腔室上以用于测试施用于阳极表面之上的阳极涂层的耐腐蚀性的阳极夹持器,使得当所述阳极密封地置于所述阳极夹持器中时,所述阳极涂层的一部分暴露于所述电解质,所述阳极涂层的所述部分在其上具有阳极缺陷;
(iii)位于所述腔室上以用于测试施用于阴极表面之上的阴极涂层的耐腐蚀性的阴极夹持器,使得当所述阴极密封地置于所述阴极夹持器中时,所述阴极涂层的一部分暴露于所述电解质,所述阴极涂层的所述部分在其上具有阴极缺陷;
(iii)具有直流输出引线的可变功率直流发电机,所述引线连接至所述阴极和所述阳极以用于跨所述阴极、所述电解质和所述阳极施加期望的直流电压持续期望的时段;
(iv)用于测量跨所述阴极、所述电解质和所述阳极的直流电压的直流测量装置;
(v)具有交流输出引线的可变功率交流发电机,所述引线连接至所述阴极和阳极以用于跨所述阴极、所述电解质和所述阳极以可变频率施加期望的交流电压持续期望的时段;
(vi)用于测量跨所述阴极、所述电解质和所述阳极的阻抗的阻抗测量装置;
(vii)位于计算机内的计算机可用存储介质,所述计算机与所述可变功率直流发电机、所述直流测量装置、所述可变功率交流发电机以及所述阻抗测量装置连通,其中计算机可读程序代码工具驻留在所述计算机可用存储介质内,所述计算机可读程序代码工具包括:
(a)用于配置计算机可读程序代码装置的工具,以使所述计算机使所述阳极涂层的所述部分和所述阴极涂层的所述部分经历启动期;
(b)用于配置计算机可读程序代码装置的工具,以使所述计算机操控所述阻抗测量装置以预设间隔测量所述启动期期间的阻抗A,以产生所述阻抗A的n1组,所述阻抗在预设的100000Hz至10-6Hz的交流电频率下测量,所述交流电由所述可变功率交流发电机提供并具有10mV至50mV的振幅;
(c)用于配置计算机可读程序代码装置的工具,以使所述计算机对于所述n1组中的每个所述阻抗A生成A阻抗奈奎斯特图;
(d)用于配置计算机可读程序代码装置的工具,以使所述计算机通过以下步骤确定启动溶液电阻StaRsol.n1):
1.测量所述A阻抗奈奎斯特图中X轴上的零点与所述A阻抗奈奎斯特图中所述X轴上的某点之间的距离,在该点处所述A阻抗奈奎斯特图中指向高启动溶液频率的阻抗曲线或外推阻抗曲线与所述X轴相交,以获得所述阻抗A在所述高启动溶液频率下的实部;以及
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于涂层国外知识产权有限公司,未经涂层国外知识产权有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180068137.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。