[发明专利]粒子射线照射系统以及粒子射线照射系统的控制方法

权利要求书

1.一种粒子射线照射系统，

具有：包括加速器的粒子射线发生部；将由该粒子射线发生部产生的粒子射线向照射目标照射的照射喷嘴；以及对照射出的粒子射线进行控制的照射控制部，所述照射喷嘴包括：扫描用偏转电磁铁，在与所述粒子射线的照射方向相正交的横向的二维方向上，该扫描用偏转电磁铁使所述粒子射线发生偏转并进行扫描；以及能量宽度扩大设备，该能量宽度扩大设备用于扩大粒子射线的能量宽度，并在所述照射目标的深度方向即所述粒子射线的照射方向上形成SOBP，所述粒子射线照射系统的特征在于，

所述能量宽度扩大设备构成为对所述照射目标的深度方向上的整个照射区域形成所述深度方向上的SOBP，所述照射控制部对所述扫描用偏转电磁铁进行控制，以使得由所述粒子射线在所述照射目标上形成的照射点会在所述照射目标的所述横向的整个照射区域上呈阶梯状移动。

2.如权利要求1所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

包括对所述照射目标的位移的相位进行检测的位移相位检测部，

在所述照射目标的位移是规定相位的期间内，所述位移相位检测部输出允许向所述照射目标照射所述粒子射线的选通信号，在输出有所述选通信号中的一个选通信号的期间内，所述照射控制部对所述扫描用偏转电磁铁进行控制，以使得所述照射点会在所述照射目标的所述横向的整个照射区域上呈阶梯状移动。

3.如权利要求2所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

包括：治疗计划部；以及照射控制计算部，该照射控制计算部利用从该治疗计划部接收到的数据，对所述呈阶梯状移动的照射点的各个照射点的照射参数进行计算，

该照射控制计算部利用从所述位移相位检测部接收到的数据，对所述照射目标的移动周期的相位进行评价，运算出用于在所述一个选通信号的期间内对所述照射目标的横向上的整个照射区域进行照射的所述照射参数，从而将用于根据该运算出的照射参数来进行照射的数据发送至所述照射控制部。

4.如权利要求2所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

使开始从所述加速器射出粒子射线的时刻、与到所述加速器能射出所述粒子射线为止的剩余时间是否大于选通信号期间内的预定照射时间的判定结果进行同步。

5.如权利要求1或2所述的粒子射线照射系统，其特征在于，

所述能量宽度扩大设备是扩大能量宽度的元件，使得在所述横向上具有能量宽度不同的分布。

6.一种粒子射线照射系统的控制方法，将由粒子射线发生部产生的粒子射线向照射目标进行照射，其特征在于，

所述粒子射线照射系统包括：扫描用偏转电磁铁，该扫描用偏转电磁铁在与所述粒子射线的照射方向相正交的横向的二维方向上，对所述粒子射线进行扫描；以及能量宽度扩大设备，该能量宽度扩大设备扩大所述粒子射线的能量宽度，并在所述照射目标的深度方向即所述粒子射线的照射方向上，对所述照射目标在深度方向上的整个照射区域形成SOBP，

在所述照射目标的位移是规定相位的期间内，对所述扫描用偏转电磁铁进行控制，以使得所述粒子射线在所述照射目标的所述横向的整个照射区域上呈阶梯状移动，来对所述照射目标进行照射。