[发明专利]用于确定和控制在流化床反应器中的与可热分解的含硅气体一起使用的颗粒的尺寸的系统和方法有效
申请号: | 201180068768.7 | 申请日: | 2011-12-21 |
公开(公告)号: | CN103403525A | 公开(公告)日: | 2013-11-20 |
发明(设计)人: | S·布萨拉普;A·纳维兹;P·古普塔;K·巴拉克里希南 | 申请(专利权)人: | MEMC电子材料有限公司 |
主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 高美艳;马江立 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 控制 流化床 反应器 中的 分解 气体 一起 使用 颗粒 尺寸 系统 方法 | ||
1.一种用于确定在流化床反应器中的与可热分解的含硅气体一起使用的多晶硅颗粒的尺寸的系统,所述系统包括:
容纳有很多多晶硅颗粒并具有入口和出口的流化床反应器,该流化床反应器具有包括非反应性材料的内衬;
邻近所述反应器定位的压力传感器,所述压力传感器构造成测量在所述反应器的所述入口和所述出口中的至少一个中的气体压力;和
与所述压力传感器通信的处理器,所述处理器构造成通过使用算法和所测量得到的气体压力确定在所述反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,入口压力传感器邻近气体入口定位。
3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,气体入口邻近气室。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,出口压力传感器邻近气体出口定位。
5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述反应器具有壳体,并且附加压力传感器邻近所述壳体定位。
6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述处理器构造成通过将算法应用于由所述压力传感器测量得到的在所述反应器中的气体压力确定所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径。
7.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述处理器构造成通过将算法应用于由所述压力传感器测量得到的在所述反应器中的气体压力确定所述很多颗粒中的至少一个的表面平均直径。
8.一种用于确定在流化床反应器中的与可热分解的含硅气体一起使用的很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径的系统,其中,该流化床反应器具有包括非反应性材料的内衬,该系统包括:
邻近所述流化床反应器的气体入口定位的入口压力传感器,所述入口压力传感器构造成测量在所述反应器的所述气体入口中的气体压力;
与所述入口压力传感器通信的处理器,所述处理器构造成通过将第一算法应用于所测量得到的气体压力确定在所述反应器中的很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径。
9.根据权利要求8所述的系统,还包括邻近所述流化床反应器的气体出口定位的出口压力传感器。
10.根据权利要求9所述的系统,其特征在于,所述处理器与所述出口压力传感器通信,并且所述处理器构造成通过将算法应用于由所述入口压力传感器测量得到的气体压力和由所述出口压力传感器测量得到的气体压力来确定在所述反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径。
11.一种用于确定在流化床反应器中的与可热分解的含硅气体一起使用的很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸的方法,其中,该流化床反应器具有包括非反应性材料的内衬,该方法包括:
利用入口压力传感器测量在所述反应器的入口中的气体压力;
将在所述反应器的所述入口中测量得到的气体压力输送到处理器;和
至少部分基于应用于由所述入口压力传感器测量得到的在所述反应器的所述入口中的气体压力的算法,使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸包括:使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径。
13.根据权利要求11所述的方法,还包括通过出口压力传感器测量在所述反应器的出口中的气体压力。
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸包括:将算法应用于由所述入口压力传感器测量得到的气体压力和由所述出口压力传感器测量得到的气体压力。
15.根据权利要求14所述的方法,其特征在于,使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的尺寸包括:使用所述处理器确定在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的直径。
16.根据权利要求11所述的方法,还包括至少部分基于在所述流化床反应器中的所述很多多晶硅颗粒中的至少一个的所确定的尺寸来控制所述流化床反应器的操作。
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