[发明专利]用于食品的等离子体辅助激光烹制的方法及设备

权利要求书

1.一种用于将能量施加至定位好的食品以实现所述食品的烹制的方法，能量通过激光发射器施加在所述食品的附近，所述方法包括：

根据资料来控制从所述激光发射器到所述食品上的能量的施加；以及

在烹制周期过程中根据所述控制在所述食品的至少一部分中和周围产生等离子体。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括在所述烹制周期过程中根据与对所述食品进行的能量的受控施加相关的反馈来调节来自所述激光发射器的能量的施加。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述资料包括功率等级、所述烹制周期的持续时间、以及脉冲占空比。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，对能量的施加的所述控制包括控制激光束的点尺寸。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，对能量的施加的所述调节包括控制所述食品相对于所述激光发射器的位置。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括Nd：YAG激光器。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括CO₂激光器。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括准分子激光器。

9.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括二极管激光器。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述资料包括大约0.3kW的峰值功率、大约1.9W的平均功率、大约100ns的脉冲宽度、大约3kHz的脉冲频率、以及大约60s的所述烹制周期的持续时间。

11.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括激光二极管，并且所述资料包括大约0.3kW的峰值功率、大约1W的平均功率、大约50ns的脉冲宽度、大约3kHz的脉冲频率、以及大约60s的所述烹制周期的持续时间。

12.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述激光发射器包括激光二极管，并且所述资料包括大约0.3kW的峰值功率、大约1.6W的平均功率、大约50ns的脉冲宽度、大约4kHz的脉冲频率、以及大约60s的所述烹制周期的持续时间。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述烹制周期过程中的能量的施加进一步基于所述食品的特定类型。

14.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，进一步包括通过主计算机检索所述资料。

15.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，进一步包括通过主计算机以及利用网络连接至所述主计算机的服务器来检索所述资料。

16.一种用于将能量施加至食品以实现所述食品的烹制的设备，所述设备包括：

烹制台，所述食品定位在所述烹制台上；

激光发射器，邻近所述烹制台，所述激光发射器耦接至激光控制器，所述激光发射器用于将激光能量发射到所述食品上；以及

控制单元，耦接至所述烹制台和所述激光控制器，所述控制单元构造成控制与所述激光发射器相关的参数以便在所述食品的至少一部分中和周围产生等离子体，以使来自所述激光发射器的能量分布在所述食品内从而实现所述食品的烹制。

17.根据权利要求16所述的设备，进一步包括耦接至所述控制单元的检测器，其中，所述控制单元进一步构造成在所述烹制周期过程中根据在所述检测器中产生的反馈信号来控制与所述激光发射器相关的参数。

18.根据权利要求16或17所述的设备，其中，所述资料包括功率等级、所述烹制周期的持续时间、以及脉冲占空比。

19.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述激光发射器包括构造成控制所述激光束的点尺寸的透镜。

20.根据权利要求16至19中任一项所述的设备，其中，所述激光发射器包括Nd：YAG激光器。

21.根据权利要求16至19中任一项所述的设备，其中，所述激光发射器包括CO₂激光器。