[发明专利]双叉式电容传感器图案有效

专利信息
申请号: 201180070734.1 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN103534673A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 马绍·巴达耶 申请(专利权)人: 赛普拉斯半导体公司
主分类号: G06F3/045 分类号: G06F3/045
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 周靖;郑霞
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双叉式 电容 传感器 图案
【权利要求书】:

1.一种电容传感器阵列,包括:

第一组多个传感器元件;以及

第二传感器元件,其与所述第一组多个传感器元件中的每一个电容耦合,其中所述第二传感器元件包括:

第一主要迹线和第二主要迹线,其中,所述第一主要迹线和所述第二主要迹线与所述第一组多个传感器元件中的每一个相交,其中所述第一主要迹线和所述第二主要迹线中的每一个穿过与所述第二传感器元件相关联的多个单元小区中的至少一个,其中所述多个单元小区中的每一个表示一组位置,这组位置比起到传感器元件之间的任何其它交叉区域的距离,更靠近所述第二传感器元件与所述第一组多个传感器元件中的相应一个之间的交叉区域,

连接辅迹线,其被电耦合到所述第一主要迹线和所述第二主要迹线两者,以及

在每个单元小区内的从所述第一主要迹线或所述第二主要迹线分支出来的至少一个初级辅迹线。

2.如权利要求1所述的电容传感器阵列,还包括多个桥部,其中,所述第一主要迹线和所述第二主要迹线包括通过所述多个桥部而被连接在一起的多个迹线区段。

3.如权利要求2所述的电容传感器阵列,其中,所述第一传感器元件和所述第二传感器元件由单个层构成,并且其中所述多个桥部中的每一个位于所述第一传感器元件和所述第二传感器元件之间的交叉区域。

4.如权利要求1所述的电容传感器阵列,其中,所述至少一个初级辅迹线沿着与所述连接辅迹线的长度相同的轴线延伸。

5.如权利要求1所述的电容传感器阵列,其中,沿着所述连接辅迹线长度的轴线垂直于所述第一主要迹线的边缘和所述第二主要迹线的边缘。

6.如权利要求1所述的电容传感器阵列,其还包括与所述第一传感器元件和所述第二传感器元件电隔离的一个或多个虚拟迹线,其中,所述一个或多个虚拟迹线的每个都被所述第二传感器元件的部分所环绕。

7.如权利要求6所述的电容传感器阵列,其中,所述一个或多个虚拟迹线位于流经所述第二传感器元件的核心区域的电流的路径之外。

8.如权利要求1所述的电容传感器阵列,其中,所述第一传感器元件和所述第二传感器元件被层压在透明材料上。

9.一种装置,包括:

电容传感器阵列,包括:

第一组多个传感器元件;以及

第二传感器元件,其与所述第一组多个传感器元件中的每一个电容耦合,其中所述第二传感器元件包括:

第一主要迹线和第二主要迹线,其中,所述第一主要迹线和所述第二主要迹线与所述第一组多个传感器元件中的每一个相交,其中所述第一主要迹线和所述第二主要迹线中的每一个穿过与所述第二传感器元件相关联的多个单元小区中的至少一个,其中所述多个单元小区中的每一个表示一组位置,这组位置比起到传感器元件之间的任何其它交叉区域的距离,更靠近所述第二传感器元件与所述第一组多个传感器元件中的相应的一个之间的交叉区域,

连接辅迹线,其被电耦合到所述第一主要迹线和所述第二主要迹线两者,以及

在每个单元小区内的从所述第一主要迹线或所述第二主要迹线分支出来的至少一个初级辅迹线,以及

电容传感器,其与所述电容传感器阵列耦合,其中,所述电容传感器被配置成用于测量所述电容传感器阵列的电容。

10.如权利要求9所述的装置,其中所述电容传感器被配置成用于通过在所述第二传感器元件上发射第一信号以及从所述第一传感器元件接收第二信号来测量所述电容。

11.如权利要求9所述的装置,其中,所述电容传感器还被配置成通过测量与所述第一传感器元件和所述第二传感器元件之间的交叉区域相关的互电容来测量所述电容传感器阵列的电容。

12.如权利要求9所述的装置,其还包括显示器面板,其中所述电容传感器阵列由透明导电材料构成,并且其中所述电容传感器阵列覆盖在所述显示器面板上。

13.如权利要求9所述的装置,其还包括多个桥部,其中,第一传感器元件包括通过所述多个桥部连接在一起的多个区段,其中,所述第一传感器元件和所述第二传感器元件由单个层构成,并且其中,所述多个桥部中的每一个位于所述第一传感器元件和所述第二传感器元件之间的交叉区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛普拉斯半导体公司,未经赛普拉斯半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180070734.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top