[发明专利]用于处理成批的衬底的原子层沉积反应器及其方法在审
申请号: | 201180075016.3 | 申请日: | 2011-11-22 |
公开(公告)号: | CN103946418A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | S·林德弗斯;P·J·苏瓦尼南 | 申请(专利权)人: | 皮考逊公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L31/18 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 处理 成批 衬底 原子 沉积 反应器 及其 方法 | ||
1.一种方法,包括:
提供原子层沉积反应器的反应室模块,所述反应室模块用于通过原子层沉积工艺处理成批的衬底;以及
经由与在处理之后卸载所述成批的衬底不同的路径,在处理之前将所述成批的衬底装载到所述反应室模块中。
2.根据权利要求1所述的方法,包括:
在所述原子层沉积反应器的预处理模块中,预处理所述成批的衬底;
在所述反应器的所述反应室模块中,通过所述原子层沉积工艺来处理经预处理的成批的衬底;以及
在所述反应器的后处理模块中,后处理经处理的成批的衬底,其中所述预处理模块、所述反应室模块和所述后处理模块按行定位。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述通过原子层沉积工艺处理包括:通过顺序自饱和表面反应来在所述成批的衬底上沉积材料。
4.根据权利要求2或3所述的方法,其中所述预处理模块是预加热模块,并且所述预处理包括预加热所述成批的衬底。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的方法,其中所述后处理模块是冷却模块,并且所述后处理包括冷却所述成批的衬底。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的方法,包括将所述成批的衬底在一个方向上传输经过整个处理线,所述处理线包括所述预处理模块、所述反应室模块和所述后处理模块。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的方法,其中所述预处理模块是第一装载锁,并且所述方法包括通过热传输在所述第一装载锁中在升高的压力下预加热所述成批的衬底。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法,其中所述后处理模块是第二装载锁,并且所述方法包括通过热传输在所述第二装载锁中在升高的压力下冷却所述成批的衬底。
9.根据上述权利要求中任一项所述的方法,包括将所述成批的衬底划分为衬底子集,并且在所述反应室模块中同时处理每个所述子集,每个子集具有其自己的气流入口和气流出口。
10.根据上述权利要求中任一项所述的方法,包括在太阳能电池结构上沉积氧化铝。
11.一种设备,包括:
原子层沉积反应器的反应室模块,被配置用于通过原子层沉积工艺来处理成批的衬底;以及
装载和卸载装置,允许经由与在处理之后卸载所述成批的衬底不同的路径,在处理之前将所述成批的衬底装载到所述反应室模块中。
12.根据权利要求11所述的设备,包括:
所述原子层沉积反应器的预处理模块,被配置用于预处理所述成批的衬底;
所述反应器的所述反应室模块,被配置用于通过所述原子层沉积工艺处理经预处理的成批的衬底;以及
所述反应器的后处理模块,被配置用于后处理经处理的成批的衬底,其中所述预处理模块、所述反应室模块和所述后处理模块按行定位。
13.根据权利要求12所述的设备,其中所述通过原子层沉积工艺处理包括:通过顺序自饱和表面反应来在所述成批的衬底上沉积材料。
14.根据权利要求12或13所述的设备,其中所述预处理模块是被配置用于预加热所述成批的衬底的预加热模块。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的设备,其中所述后处理模块是被配置用于冷却所述成批的衬底的冷却模块。
16.根据权利要求12至15中任一项所述的设备,其中所述设备被配置用于将所述成批的衬底在一个方向上传输经过整个处理线,所述处理线包括所述预处理模块、所述反应室模块和所述后处理模块。
17.根据权利要求12至16中任一项所述的设备,其中所述预处理模块是第一装载锁,所述第一装载锁被配置用于通过热传输在升高的压力下预加热所述成批的衬底。
18.根据权利要求12至17中任一项所述的设备,其中所述后处理模块是第二装载锁,所述第二装载锁被配置用于通过热传输在升高的压力下冷却所述成批的衬底。
19.根据权利要求11至18中任一项所述的设备,其中所述反应室模块包括分隔壁,或者被配置用于接收分隔壁,所述分隔壁将所述成批的衬底划分为衬底子集,每个子集具有其自己的气流入口和气流出口。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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