[发明专利]闭环控制

权利要求书

1.一种控制反应沉积工艺的方法，包含：

使用电源向阴极提供功率；

向所述电源提供电压设定点；

接收与提供至所述阴极的所述功率相关的功率值；和

依赖于所述功率值控制工艺气体的流量以提供闭环控制。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，提供至所述阴极的所述功率是MF功率，具体而言具有1kHz至200kHz的振荡频率。

3.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其特征在于，所述电压设定点是所述电源的上限。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，所述电压设定点被配置以在过渡模式中操作所述阴极。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述功率值是提供至所述阴极的实际功率，具体而言如MF功率。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述接收功率值通过控制工艺气体的所述流动稳定化。

7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，所述工艺气体包含氧气，具体而言其中所述氧气流量被控制。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，进一步包含：

接收通过所述电源提供的所述电压的实际电压值，且基于所述实际值监控所述沉积模式。

9.一种被设置用于沉积装置中的反应沉积工艺的闭环控制组件，所述沉积装置具有腔室和在所述腔室中的阴极，所述闭环控制组件包含：

电源，连接到所述阴极用于提供功率至所述阴极；

气源，被配置用于在所述腔室中提供工艺气体；

控制器，连接到所述电源用于提供电压设定点至所述电源且用于从所述电源接收功率值，其中所述控制器被进一步连接到所述气源，用于依赖于所述功率值控制所述工艺气体的气流。

10.如权利要求9所述的组件，其特征在于，功率值是提供至所述阴极的所述功率。

11.如权利要求9至10中任一项所述的组件，其特征在于，所述电源是MF电源，具体而言，所述MF电源具有直流产生器和振荡器。

12.如权利要求9至11中任一项所述的组件，其特征在于，所述电源被配置以提供具有振荡频率为1kHz至200kHz的功率。

13.如权利要求9至12中任一项所述的组件，其特征在于，所述控制器包含程序代码，所述程序代码适用于组件以执行如权利要求1至8中任一项所述的方法的至少一个方法。

14.如权利要求9至13中任一项所述的组件，其特征在于，所述电压设定点是电压上限。

15.一种用于在基板上反应沉积层的沉积装置，包含：

腔室，用于在所述腔室中的所述基板上沉积所述层；

阴极，用于在所述腔室中产生等离子体；和

如权利要求9至14中任一项所述的闭环控制组件。